專利名稱:預先定位裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M439541

專利名稱:曝光機之對準定位調整裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M439825

專利名稱:雙軌循環式曝光裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M473537

專利名稱:具有轉動式反射部之曝光裝置
申請國家:中華人民共和國
獲證號碼:M478177

專 利:

  • 雙層板精密對位之標記及其影像處理設計與方法(台灣專利、金屬中心)
  • 雙軌循環式曝光裝置 (台灣專利)
  • 具有轉動式反射部之曝光裝置(台灣專利)
  • 對準定位調整裝置(台灣專利)
  • 預先定位裝置(台灣專利)
 

關鍵技術:

  • 精密機台對準校準裝置
  • 精密對位影像處理設計與方法