科毅科技成立于2001年为一半导体暨光电设备制造商,致力成为黄光制程设备及材料的专家，目前提供光罩对准曝光机，UV平行光源，,光阻涂布机， 显影机，光罩( 4"~32")制作，设有机械组装厂房生产线，专精于光罩对准曝光机之设计制造，以及设有class 1000等级无尘室，提供光罩制作及制程设备测试之更佳环境，并销售4"~32"玻璃光罩及代理英国Andor公司之科研用高灵敏相机，光谱仪，共轭焦系统等光学仪器，客户遍及全亚洲( Taiwan、 China、 Singapore、 India ) 包括各类半 导体/光电厂商(奇美、 友达、 和鑫、 晶元、 鼎元、 连勇、 联胜、 华夏光电....等) 及各大研究单位(中研院、中科院、 工研院、 台大、 清大、 交大、 成大、 海大、 中山大学 ...etc)。
主要营业项目
半导体/光电之黄光设备：光罩对准曝光机、UV平行光源、光阻涂布机、显影机、光罩制作及光学 仪器：科研用高灵敏相机、光谱仪、活细胞共轭焦显微系统等。
主要营业项目
半导体/光电之黄光设备：光罩对准曝光机、UV平行光源、光阻涂布机、显影机、光罩制作及光学 仪器：科研用高灵敏相机、光谱仪、活细胞共轭焦显微系统等。
经营理念
自期为黄光制程设备及材料的专家并提供客户优良之仪器设备,提升自有之半导体/光电之黄光设 备研发及制造技术，使国内客户能接受台湾制作之设备，进而逐渐取代国外产品。
Manufacturer of mask aligners, UV light sources, photomasks, spin coaters, high sensitivity EMCCD, high resolution mask alignment and exposure system, both single and double side, spin coaters, hot plates, ovens, developers, etchers, wet bench, DI & megasonic water wafer cleaning systems, andor high sensitivity CCD & spectrographs, photomask, etc.. |
