提供光罩对准曝光机,UV平行光源,光阻涂布机, 显影机, 光罩(4”~32”)制作,设有机械组装 厂房生产线,专精于光罩对准曝光机之设计制造。

曝光机种类

垂直式曝光机
水平式曝光机
旋转式曝光机
 

大尺寸(22")曝光机

快速量产型曝光机
 

曝光机详细说明

 

曝光灯源
 

高压汞灯功率350W
曝光光源尺寸: 10cmX10cm
光源波长: NUV(含365nm， 400nm， 435nm)
均匀度: + -5%以内
电源供应器: 350W， 具功率调整设定功能
光源位置固定不移动
  影像系統
 

两支7倍可变倍率镜头， 放大倍率50X-350X
双CCD影像系统， 两个9"黑白屏幕
具同轴光源
对准点间距3.5cm-15cm
镜头位置可对对准点作左右，前后，上下调整，
基座以气缸驱动，做左右移动
 

曝光对准台
 

光罩真空吸盘 : 5" c 上吸式
晶圆真空吸盘 : 4" ， 可操作 4"， 3" 晶圆及破片 ， 具置放对准点
具动光罩 ， 晶圆水平校正功能
可调整光罩 ， 晶圆之真空吸附力大小
曝光模式有真空接触式与近接式
X，Y 轴调整 12mm .Z 轴调整 5mm ， 调整性能 2um.

对准台以气缸驱动 ， 往前做对准动作 ， 往后做曝光动作
  操作系統
 

手动操作面板
具光罩真空 ， 晶圆真空 ， 吸附真空之指示表
定时器时间设定 :0.1-999 秒
防止错误操作功能

 

机座
 

按装有防震气垫 ， 具良好避震功能

按装有调整脚座及轮子 ， 方便定位
  性能
 

采真空接触曝光图形解析可达 1 um 以内
采近接式曝光约在 5-10um 以内