NPR-20  Negative Photoresist  负光阻

 使用特性:
1. 液态树脂,涂布时密着性优良,胶膜机械强度佳。
2. 树脂胶膜在酸性蚀刻液中,抗蚀性良好;可耐高温 > 150℃。
3. 可以DS-10显影与S-100剥膜,使用方便 (溶液均不会腐蚀铝等金属层)。

 涂布方式:旋转涂布【1300 rpm→3 - 4 um】 (膜厚均匀性佳)

 适当软烤温度:65-85℃;时间:5-10分钟。

 曝光量:45-120 mj/cm2依基片反光度而定。

 曝光后静置:温度:室温;时间:5-15分钟。

 显影及剥膜方式:
1. 稀释显影液DS-10 (1;4 or 1:9) 显影以及用S-100 or DS-10 原液剥膜。 (显影液与剥膜液不会腐蚀铝等金属层)。
2. 显影与剥膜时间:1.5-10分钟;需DI Water Rinse Cycles。

 相关物理化学性质: