此曝光机对位系统可以说是曝光对准机中最重要的机件之一，它提供了光罩及基材（晶圆）之间之精密共平面之 Z 轴及 X 、 Y 、θ 轴的相对位置调整。
AG M&R 光罩 (AG M&R Mask)；基材(晶圆)平台 (Substrate Stage)
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X轴、Y轴、8轴的调整机构可选配升级为 joystick 可改善操作效率。 |
配合精密的光學尺、步進馬達，所以能達到全自動的 Z 軸 (光罩與基材之間的高度控制)。 |
真空基材 (晶圆) 吸附Chucks (Vacuum Substrate Chucks)
可完全配合客户基板的尺寸及型状来提供最适当的基材 chuck ，如方形陶瓷、玻璃、 SUS 、及圆形 Si 、 GaN 、 GaAS 、 LiTaO3 ...等的基材，甚至破片亦可。并有兼具多尺寸功能的 chuck （兼具 4" 、 2" 及破片于同一 chuck ，如下图所示）
真空光罩吸附固定座 (Vacuum Mask Holders)
上吸式(Top-Load) 光罩尺寸* : 2", 3", 4", 5", 6", 7", & 9" 正方
下吸式(Bottom-Load)光罩尺寸* : 2", 3", 4", 5", 6", & 7" 正方
光罩厚度：标准规格 0.060", 0.090", & 0.120" (亦可接受客制化的厚度规格)
光罩固定座可依照客户的需求订制 (Custom mask holders available upon request)
5" & 4" Top-Loading
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