提供光罩對準曝光機,UV平行光源,光阻塗布機, 顯影機, 光罩(4」~32」)製作,設有機械組裝 廠房生產線,專精於光罩對準曝光機之設計製造。
曝光機種類
自動/手動曝光機
全自動曝光機
曝光機詳細說明
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高壓汞燈功率350W
曝光光源尺寸: 10cmX10cm
光源波長: NUV(含365nm， 400nm， 435nm)
均勻度: + -5%以內
電源供應器: 350W， 具功率調整設定功能
光源位置固定不移動 |
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兩支7倍可變倍率鏡頭， 放大倍率50X-350X
雙CCD影像系統， 兩個9"黑白屏幕
具同軸光源
對準點間距3.5cm-15cm
鏡頭位置可對對準點作左右，前後，上下調整，
基座以氣缸驅動，做左右移動 |
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光罩真空吸盤 : 5" c 上吸式
晶圓真空吸盤 : 4" ， 可操作 4"， 3" 晶圓及破片 ， 具置放對準點
具動光罩 ， 晶圓水平校正功能
可調整光罩 ， 晶圓之真空吸附力大小
曝光模式有真空接觸式與近接式
X，Y 軸調整 12mm .Z 軸調整 5mm ， 調整性能 2um.
對準台以氣缸驅動 ， 往前做對準動作 ， 往後做曝光動作 |
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手動操作面板
具光罩真空 ， 晶圓真空 ， 吸附真空之指示表
定時器時間設定 :0.1-999 秒
防止錯誤操作功能 |
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按裝有防震氣墊 ， 具良好避震功能
按裝有調整腳座及輪子 ， 方便定位 |
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采真空接觸曝光圖形解析可達 1 um 以內
采近接式曝光約在 5-10um 以內 |
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