AG-MLL-CS500/C900

应用领域 :

  • MEMS
  • 掩模版制作
  • IC器件
  • 生物芯片
  • 3D光刻
  • 微传感器
  • 微流體控件

主要功能及特征

  • 器件无掩模直写光刻功能
  • 光掩模版制作功能
  • 3D结构曝光功能
  • 自动对准功能
  • 背部对准功能
  • 用户自定义标记对准功能
  • 可视化定点曝光功能
  • 自动聚焦功能
  • 快速、精细两种曝光方式
  • 405nm ( 375nm 可選) LED光源
  • 多種數據輸入格式( DXF/CIF/GDSI/Gerberi*選配/BMPTIFF)
  • 基于Windows系统,用户界面简单,易于操作使用
  • 不规则样片曝光
  • 小批量,多品种