無光罩雷射直寫曝光機可用於半導體主被動元件、光電顯示器、背光模組上,也可用於其他太陽能電池、LED等產品的製程。

無光罩雷射直寫曝光機是集機械、電子光學、電氣、真空、計算機技

無光罩雷射直寫曝光機可用於半導體主被動元件、光電顯示器、背光模組上,也可用於其他太陽能電池、LED等產品的製程。

無光罩雷射直寫曝光機是集機械、電子光學、電氣、真空、計算機技術等於一體的精密半導體加工設備。利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光,受電子束輻照區域的光刻膠,化學性質會產生變化,形成良溶或非良溶區域,由此在抗蝕劑上形成精細圖形。

應用範圍:

1) 觸控面板、2) 印刷電路板、3) 半導體、4) 光罩製作、5) R&D
 

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