紫外線燈泡(汞燈)建議使用小時數如下 :
正常使用狀態:
250W、350W、500W,為600小時
1000W、2000W,為800小時
提醒您,曝光系統有數種光學元件,大部分元件皆有塗佈獨特的光學鍍膜,此光學鍍膜會因為時間、溫度、濕度及酸鹼PH值產生損耗,建議將固定檢查點檢其功能性及外觀有無異常,並加以記錄,有任何問題請直接請教專業的 M&R 諮詢。


PLC可程式控制器(Programable Logic Controller)簡稱PLC,是一種具有微處理機的數位電子設備,可以將控制指令隨時載入記憶體內儲存與執行。

在自動化控制領域,PLC是一種重要的控制設備。目前,世界上有200多廠家生產300多品種PLC產品,應用在汽車(23%)、糧食加工(16.4%)、化學/製藥(14.6%)、金屬/礦山(11.5%)、紙漿/造紙(11.3%)等行業。其實在生產線上很多控制是應用PLC來處理例如機械手臂、輸送帶,生活中有的例子如:電梯...等等。

人機:在工業界亦將傳統按鈕面板進入到親切的觸控人機介面(Human-Machine Interface,縮寫HMI),在工業上的用戶介面簡單的區分為Input(輸入)與Output(輸出)兩種,Input指的是由人來進行機械或設備的操作,如把手、開關、門、指令(命令)的下達或保養維護等,而Output指的是由機械或設備發出來的通知,如故障、警告、操作說明提示等,好的人機介面會幫助使用者更簡單、更正確、更迅速的操作機械,也能使機械發揮最大的效能並延長使用壽命,而目前市面上所指的人機介面則多半狹義的指在擁有軟體人性化的操作介面的硬體(如觸控螢幕)。


黃光設備的應用範圍如下 :

  • Displays (Touch Panel、LCD、OLED)
    顯示器(觸控面板、液晶顯示、有機發光二極體顯示器)
  • MEMS devices
    微機電
  • Optoelectronic devices (LEDs、laser-diodes、waveguide arrays、Ink Jet head、MMIC)
    光電元件(發光二極體、雷射二極體、光波導元件、噴墨印表機、微波積體電路)
  • Detectors (CCD、near- and far-IR)
    感測器(電荷耦合元件、紅外線感測器)
  • Passive Component
    被動元件
  • PV ( 3,5 族Photo Voltaic)
    3,5 族太陽能電池
  • Semiconductor packaging (wafer bumping and wafer-level Packaging)
    半導體製程

 

黃光設備製程的基本步驟如下 :

  • 1. 光阻塗佈
    1-1 晶圓清洗
    1-2 脫水烘烤
    1-3 底漆層及光阻塗佈
    1-4 軟烘烤
  • 2. 曝光
    2-1 對準及曝光
  • 3. 顯影
    3-1 顯影
    3-2 圖案檢視
    3-3 硬烘烤
  • 4. 蝕刻
    4-1 化學蝕刻

 


大多數之感光膠(光阻、光刻膠)的光敏感範圍皆在450nm以下,故原則上無塵室的光線波長只要在500nm以上就算是安全,不會造成提早感光及誤曝的情況,則紅光、黃光、綠光、藍光皆可以被採用於無塵室的照明,但因其下列原因,故選擇"黃光"作為該無塵室的主要照明。

  • 紅光無塵室,若長期待上8個小時,心情較會變得心浮氣躁。
  • 綠光無塵室,在綠光的投射下,見到無塵室內的同事,會變成"看到鬼"。
  • 藍光無塵室,因藍光波長太靠近紫外光,導致較長波長(436nm)敏感之光阻,可能造成誤曝光。
  • 黃光無塵室,是物理及人性方面最能被為接受的。

綜合以上原因,故採用黃光無塵室。


定義 :
光罩(Photo Mask)是一塊畫有特定圖案(Pattern)的玻璃片或膠片,玻璃是可以透光的,另外有些地方含有不透光物質,使光無法透過去。

種類 :
光罩依底材可分為:玻璃光罩:玻璃底材又大致分為石英(Quartz)和光學玻璃(Soda Lime)。透光率以石英為佳,熱膨脹率也以石英較小膠片光罩(Mylar Film):一般用在pcb或精度要求不高之製程光罩依感光物質可分為:乳膠(Emulsion)底片:或在底材(玻璃或膠片)上塗上感光乳膠,易刮傷、成本便宜;鉻片:在底材(玻璃)上需鍍上鉻金屬,之後塗上光阻,不易刮傷,成本高。 尺寸: 3"、4"、5"、6"、7”或大型底片可大到32" * 28"、也可依要求製成特殊尺寸。

用途 :
光罩是使用在半導體工廠的製造過程中,半導體或晶圓製造過程是由數百道至上千道的製程所構成,重複著[微影]、[蝕刻]、[薄膜]、[擴散]、[離子植入]的過程,光罩就是使用在微影製程(Photolithography),晶圓在進入曝光機台(stepper或scanner)進行曝光前,需先由光阻塗佈機(PR coater)塗上一層固定厚度的光阻(photo resistance, PR),再送到曝光機台進行曝光,把光罩上的圖案(Pattern)重現在晶圓上面,曝光後經過顯影,定影步驟,才算完成微影製程,再經過蝕刻製程並且去掉光阻,就會得到所需要的圖案(Pattern)。

作成 :
光罩的製作是使用雷射繪圖機,依不同精度,使用不同等級的繪圖機,花費時間也依精度而有所不同,其製作的流程包括雷射繪製,光罩上有塗上感光層,雷射照射後會產生聚合或分解的效應,可使得所需的圖形留在底材上,不需要的部份,經過去光阻(或稱剝膜,而產生出圖形,清洗後,即完成光罩的製作。


照度計的原理及作用
照度計、紫外輻射照度計,屬於光學測試儀器。其特徵是由兩個單向截止光學濾光片和兩個相同的光電接收器構成雙光路探測器,電路部分採用雙路放大,從而能夠準確地測出所需測試波段的輻射量值,雜散光截止性很強。

照度計的測試原理
照度是受照平面上接受的光通量的面密度。照度計是用於測量被照面上的光照度的儀器,是光照度測量中用得最多的儀器之一。

照度計的結構原理
照度計由光度頭(又稱受光探頭,包括接收器、V(λ)對濾光器、餘弦修正器)和讀數顯示器兩部分組成。照度計受照面的亮度與光源的入射角度有關。相同的道理,在用照度計做測量時,感應器﹝Sensor﹞與光源入射角度自然會對照度計的讀值有影響。所以一個好的照度計是否有餘弦補償的功能實在不可忽略。

使用和校準建議 同一個公司盡可能的使用同一廠家同一型號的儀器,便於量測值統一,便於公司內部記錄和比較。用同一間公司不同型號照度計進行測量,測量結果可能也有較大差異。由於紫外輻照計制作探測器材料的特殊性,年變化率還是比較大的,再加上使用頻繁,很容易產生量值漂移,如對量值產生懷疑最好及時送檢。
最後即使正常使用也需送原廠一年校正一次,以確保準確性。


"對位"簡單來說就是將光罩上的圖形精準的對齊在基材(晶圓)上,然後再進行曝光的動作。
所以對位系統可以說是曝光對準機中最重要的機件之一,它提供了光罩及基材(晶圓)之間之精密共平面之 Z 軸及 X 、 Y 、θ 軸的相對位置調整。

本公司提供了利用分離卡之手動方式對位,或利用高精度CCD影像辨識的自動對位,解析度可達1um。


紫外線燈泡(汞燈)異常衰減檢查內容 :

  1. 檢查紫外線燈泡(汞燈)功率、電壓和電流,是否正確(標準值可參考汞燈燈盒)。
  2. 紫外線燈泡(汞燈)的位置是否正確,X、Y、Z軸需調至最佳位置。
  3. 反光碗是否有氧化。
  4. Fly eye是否有霧化。
  5. 更換紫外線燈泡(汞燈),確認是否有瑕疵。
  6. 確認照度計是否有問題。