光罩製作精密首選-科毅

科毅為光罩製作精密首選,Total Solution(全製程服務)提供您全方位的光罩設計製作方案。本公司除提供光罩對準曝光機等黃光設備以外,也提供製程材料,尤其光罩的製作是其中重要的一環,光罩的尺寸可以從4"、5"、6"一直到24" × 32",其中並可提供4"、5"、6"、7"等的複製子片的服務,各大LED、Discrete components、MEMS、Optoelectronics 等廠。
 

光罩簡介

光罩為生產晶片的模具,讓積體電路的設計圖樣能夠轉印至晶圓。現今像晶圓、半導體產業,都會運用到光罩。透過光罩作用,能夠將半導體上的圖形複製於晶圓上。其原理類似於沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。一般來說,光罩透過描畫、顯影、蝕刻、去除光阻等嚴格的檢驗製程,最終出貨到客戶端。科毅多年來於光罩產業深耕,為了滿足業界更高更精細的需求,我們也持續竭力於研發、培養更多人才,掌握更深厚專業的光罩製作技術。若您有光罩製作的需求,歡迎洽詢科毅。