AG-MLL-CS500-C900

應用領域 :

• MEMS
• 掩模版製作
• IC器件
• 生物芯片
• 3D光刻
• 微傳感器
• 微流體控件

主要功能及特徵:

• 器件無掩模直寫光刻功能
• 光掩模版製作功能
• 3D結構曝光功能
• 自動對準功能
• 背部對準功能
• 用戶自定義標記對準功能
• 可視化定點曝光功能
• 自動聚焦功能
• 快速、精細兩種曝光方式
• 405nm ( 375nm 可選) LED光源
• 多種數據輸入格式( DXF/CIF/GDSI/Gerberi*選配/BMPTIFF)
• 基於Windows系統,用戶界面簡單,易於操作使用
• 不規則樣片曝光
• 小批量,多品種