关于我们
专利名称：预先定位装置
申请国家：中华民国
获证号码：M439541
专利名称：曝光机之对准定位调整装置
申请国家：中华民国
获证号码：M439825
专利名称：双轨循环式曝光装置
申请国家：中华民国
获证号码：M473537
专利名称：具有转动式反射部之曝光装置
申请国家：中华民国
获证号码：M478177
专 利：
- 双层板精密对位之标记及其影像处理设计与方法（台湾专利、金属中心）
- 双轨循环式曝光装置 (台湾专利)
- 具有转动式反射部之曝光装置(台湾专利)
- 对准定位调整装置(台湾专利)
- 预先定位装置(台湾专利)
关键技术：
- 精密机台对准校准装置
- 精密对位影像处理设计与方法
