
Patentexpertise
Designpatent
M&R hat sich stets an unabhängige Forschung und Entwicklung sowie technologische Innovationen gehalten und dabei umfassende technische Expertise im Bereich der Photolithographie-Ausrüstung für Halbleiter angesammelt. Um Käufern wettbewerbsfähigere und risikoärmere Beschaffungsoptionen zu bieten, haben wir kontinuierlich zahlreiche wichtige Patentzertifizierungen für Kernausrüstungen wie Belichtungsmaschinen, Beschichtungsmaschinen und Reinigungsgeräte erhalten.
- Designpatente
- Nivellierungsmechanismus des universellen Positionierungsgeräts für Belichtungsmaschinen
- Hilfsjustiereinrichtung mit koaxialer Lichtquelle
- Wafer-Belichtungsmaschine
- Photoresist-Beschichtungsmaschine mit wärmeisolierender Struktur
- Photoresist-Beschichtungsmaschine mit wärmeisolierender Struktur
- Optische Struktur des lichtdurchlässigen Justiergeräts
- Rotationssynchrones Kantenfindungs-Oberflächenreinigungsgerät
- Wafer-Positionierungsgerät für Beschichtungsmaschinen
- Integrierter Justiermechanismus und Belichtungsjustiereinrichtung mit solch einem Mechanismus
- Automatischer Nivellierungsmechanismus für horizontale und Neigungswinkel des Waferrandes und der Fotomaske zur Kompensation von Keilfehlern in der Belichtungsmaschine - Neuheit
- Automatischer Nivellierungsmechanismus für horizontale und Neigungswinkel des Waferrandes und der Fotomaske zur Kompensation von Keilfehlern in der Belichtungsmaschine - Erfindung
- Optisches Gerät der Belichtungsmaschine
- Wärmeableitungsgerät für Lichtplatten in der Belichtungsmaschine