Patentexpertise
Designpatent
M&R hat sich stets an unabhängige Forschung und Entwicklung sowie technologische Innovationen gehalten und dabei umfassende technische Expertise im Bereich der Photolithographie-Ausrüstung für Halbleiter angesammelt. Um Käufern wettbewerbsfähigere und risikoärmere Beschaffungsoptionen zu bieten, haben wir kontinuierlich zahlreiche wichtige Patentzertifizierungen für Kernausrüstungen wie Belichtungsmaschinen, Beschichtungsmaschinen und Reinigungsgeräte erhalten.
- Designpatente
-
-
Nivellierungsmechanismus des universellen Positionierungsgeräts für Belichtungsmaschinen
-
Hilfsjustiereinrichtung mit koaxialer Lichtquelle
-
Wafer-Belichtungsmaschine
-
Photoresist-Beschichtungsmaschine mit wärmeisolierender Struktur
-
Photoresist-Beschichtungsmaschine mit wärmeisolierender Struktur
-
Optische Struktur des lichtdurchlässigen Justiergeräts
-
Rotationssynchrones Kantenfindungs-Oberflächenreinigungsgerät
-
Wafer-Positionierungsgerät für Beschichtungsmaschinen
-
Integrierter Justiermechanismus und Belichtungsjustiereinrichtung mit solch einem Mechanismus
-
Automatischer Nivellierungsmechanismus für horizontale und Neigungswinkel des Waferrandes und der Fotomaske zur Kompensation von Keilfehlern in der Belichtungsmaschine - Neuheit
-
Automatischer Nivellierungsmechanismus für horizontale und Neigungswinkel des Waferrandes und der Fotomaske zur Kompensation von Keilfehlern in der Belichtungsmaschine - Erfindung
-
Optisches Gerät der Belichtungsmaschine
-
Wärmeableitungsgerät für Lichtplatten in der Belichtungsmaschine
-