特許の専門知識

M&Rは常に独立した研究開発と技術革新を遵守し、半導体フォトリソグラフィ装置の分野で深い技術的専門知識を蓄積してきました。バイヤーにより競争力があり、リスクの低い調達オプションを提供するために、露光装置、コーティング装置、洗浄装置などのコア機器に関する多数の重要な特許認証を継続的に取得しています。高品質な半導体およびオプトエレクトロニクスプロセス装置と信頼性の高いカスタマイズ製造のために、M&Rナノテクノロジーを選択してください。

デザイン特許

M&Rは常に独立した研究開発と技術革新を遵守し、半導体フォトリソグラフィ装置の分野で深い技術的専門知識を蓄積してきました。バイヤーにより競争力があり、リスクの低い調達オプションを提供するために、露光装置、コーティング装置、洗浄装置などのコア機器に関する多数の重要な特許認証を継続的に取得しています。

デザイン特許

露光機用の汎用位置決め装置のレベリング機構
同軸光源を備えた補助アライメント装置
ウエハ露光機
断熱構造を持つフォトレジストコーティング機
断熱構造を持つフォトレジストコーティング機
光透過アライナーの光学構造
回転同期エッジ検出表面清掃装置
コーティング機用のウエハ位置決め装置
統合アライメント機構とその機構を備えた露光アライメント装置
露光機におけるウェーハエッジとフォトマスクの水平およびピッチ角の自動レベリング機構 - 新規性
露光機におけるウェーハエッジとフォトマスクの水平およびピッチ角の自動レベリング機構 - 発明
露光機の光学デバイス
露光機用の光プレート熱放散装置

特許の専門知識 | カスタム半導体＆オプトエレクトロニクスプロセス装置 - M&R ナノテクノロジー

M&R NANO TECHNOLOGYは、グローバル市場向けに半導体およびオプトエレクトロニクスプロセス機器を開発しています。25年の精密製造と研究開発のサポートに支えられ、安定した品質、自動化統合、高効率を兼ね備えた先進的なシステムをクライアントに提供しています。

私たちの生産構造は、複数のオプトエレクトロニクスおよび半導体アプリケーションにおいて信頼性の高い機器を必要とするクライアントのニーズに基づいて構築されています。フォトマスクの設計と製造からカスタマイズされた機器ソリューションまで、M&R NANO TECHNOLOGYは、ワークフローの効率を向上させ、厳格なクラス1000クリーンルームテストの品質をサポートし、運用価値を強化する製造に焦点を当てています

国際的なバイヤー向けに、M&R NANO TECHNOLOGYは孤立した機械以上のものを提供します。私たちは、迅速なコミュニケーション、柔軟な自動化統合、積極的なアフターセールスサポートによって形成された製造パートナーシップを提供します。これにより、顧客は信頼できる機器、実用的なカスタマイズポジショニング、そして自信を持って頼れる工場直送の品質を備えた、より強力な生産ラインを構築することが