Masque photo | M&R ÉQUIPEMENT DE PROCESSUS SEMI-CONDUCTEUR & OPTOÉLECTRONIQUE NANO TECHNOLOGY

M&R fournit des services de fabrication de photomasques haute résolution et à faible défaut pour soutenir les processus de lithographie MEMS, optoélectronique, capteurs et semi-conducteurs. En utilisant des substrats à haute planéité et des films de chrome (Cr) de haute qualité, M&R garantit un transfert de motif précis lors de l'exposition, aidant les clients à améliorer les taux de réussite en lithographie et à raccourcir les cycles de R&D et de production pilote. Que ce soit pour le développement de processus, le prototypage ou la production en petites séries, M&R offre un support de photomask stable et fiable.
En termes de matériaux et de qualité de fabrication, M&R propose des solutions de photomasques personnalisées basées sur les exigences de mise en page et de processus des clients. Des substrats en quartz ou en verre à haute planéité sont combinés avec du chrome optiquement stable ou des matériaux optiques spécialisés pour soutenir le transfert de motifs de caractéristiques à l'échelle micrométrique à l'échelle nanométrique. De plus, M&R offre des services complets de prétraitement et de post-traitement, y compris l'inspection de mise en page, la conversion de données, la vérification dimensionnelle et l'inspection des défauts, permettant aux clients de se concentrer sur le développement des processus et l'augmentation de la production en toute confiance. Un délai d'exécution rapide et une qualité constante ont fait de M&R un partenaire photomask à long terme pour les instituts académiques et les clients industriels.Choisissez M&R NANO TECHNOLOGY pour des équipements de processus semi-conducteurs et optoélectroniques de haute qualité et une fabrication personnalisée fiable.