光罩 | 台湾高品质光罩制造商 | 科毅科技股份有限公司
科毅是台湾专业制造光罩及提供光罩服务的优良厂商(成立于西元2000年)拥有超过25年的服务经验，M&R专注于定制化与自动化的黄光制程解决方案，提升制造效率与制程稳定性。
光罩
科毅科技提供高分辨率、低缺陷的光罩制作服务，支持 MEMS、光电、传感器与半导体等微影制程需求。采用高平坦度基板与高质量铬膜，确保曝光图样能精准转移至光阻层，协助客户提升曝光成功率、缩短研发与试产周期。无论应用于研发验证、原型制作或小量试产，皆能提供稳定可靠的制程支持。
在材料与制作质量上，科毅科技可依据客户版图与制程需求，选用石英或玻璃等高平坦度基板，搭配具备良好光学稳定性的铬膜（Cr）或专用光学材料，支持从微米级到奈米级线宽的图样转移。同时提供完整的前后段配套服务，包含版图检查、数据转换、尺寸验证与瑕疵检测，让客户能安心专注于制程开发与量产导入。快速交期与稳定质量，使科毅成为众多学研单位与产业客户长期合作的光罩服务伙伴。
科毅的光罩技术与服务优势
科毅科技提供光罩制作与完整技术支持服务，涵盖用于原始图案的母片 (Main Mask)，以及提供的复制子片 (Re-produce Mask) 服务。光罩尺寸涵盖了多种业界标准，常规尺寸从 4" 到 9" 不等，并能支持最大至 24" 的超大尺寸制作。光罩基板材料选择多样，包括常见的 Soda Lime (钠钙玻璃)、高阶的 Quartz (石英) 和 Fused (熔融石英)，以及 Mylar Film 和 Emulsion 等，以满足不同制程的需求。
光罩的制作遵循严谨的六步骤流程：从开始的 CAD 设计、CAM 转换，进入实际的制作环节，随后进行严格的清洗和检验，最终才能出货，确保每一片光罩皆符合质量与制程要求。此外，科毅科技凭借超过 25 年的黄光制程经验，提供先进的光罩更换技术。该技术专注于提升接触式光刻设备的光罩更换效率与定位精准度，透过优化的机构设计、真空吸持平台和精密定位模块（如三点等高 PIN），确保光罩能快速、准确就位，并适用于 2 吋至 12 吋晶圆的半自动曝光机。
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科毅 光罩简介
科毅科技股份有限公司是台湾一家拥有超过25年经验的专业光罩生产制造服务商。 我们成立于西元2000年, 在服务半导体、光电子和先进制造市场领域上, 科毅提供专业高品质的光罩制造服务, 科毅 总是可以达成客户各种品质要求。