客制化服务
随着半导体进入先进制程与异质整合时代，黄光微影面临分辨率提升、迭对精度控制与翘曲晶圆处理等挑战。当标准设备无法满足严苛的临界尺寸均匀度与良率需求时，科毅提供深度客制化设备解决方案。
科毅专注于黄光区段关键设备模块的 设计、改造与整合，涵盖：
光阻处理系统：
针对UV光阻、多重图案化材料与不同基板，客制化涂布与显影机，提升膜厚均匀性并降低缺陷。
精密微影系统：
专注于提升现有曝光机之迭对精度与产出率。服务包括升级对位标记侦测系统以优化 On-Product Overlay；校正晶圆传输系统以提升UPH；并导入实时剂量监控与 APC 整合功能，实现以数据驱动的制程优化与稳定控制。
温度控制系统：
透过多点原位热耦量测与映射，重新校正加热器分区功率调变，显著提升晶圆级温度均匀性，确保化学放大光阻反应的一致性，直接改善关键尺寸均匀度
技术优势：
- 精度导向，支持亚微米级CD与迭对控制
- 解决3D IC、晶圆级封装、硅光子、MEMS等特殊应用挑战
- 模块化设计与MES/EAP无缝整合，确保量产稳定与良率监控
在摩尔定律与超越摩尔定律的发展下，我们致力于成为您的 制程技术伙伴，提供 超越标准规格 的黄光制程设备客制化服务，协助您突破制程瓶颈、强化竞争力。