M&R chuyên về thiết kế, sửa đổi và tích hợp các mô-đun thiết bị chính trong lĩnh vực photolithography, bao gồm:
Hệ thống xử lý photoresist:
Máy phủ và phát triển tùy chỉnh cho photoresist UV, vật liệu đa mẫu và các nền tảng khác nhau nhằm cải thiện độ đồng nhất độ dày phim và giảm thiểu khuyết tật.
Hệ thống lithography chính xác:
Tập trung vào việc cải thiện độ chính xác và năng suất của các máy phơi sáng hiện có. Các dịch vụ bao gồm nâng cấp hệ thống phát hiện dấu căn chỉnh để tối ưu hóa độ chồng chéo trên sản phẩm; hiệu chỉnh hệ thống vận chuyển wafer để cải thiện thời gian hoạt động trên mỗi inch (UPH); và triển khai giám sát liều lượng theo thời gian thực và tích hợp APC để đạt được tối ưu hóa quy trình dựa trên dữ liệu và kiểm soát ổn định.
Hệ thống kiểm soát nhiệt độ:
Thông qua việc đo lường và lập bản đồ nhiệt độ đa điểm tại chỗ bằng cảm biến nhiệt độ, việc điều chỉnh công suất khu vực gia nhiệt được hiệu chỉnh lại, cải thiện đáng kể độ đồng nhất nhiệt độ ở cấp độ wafer, đảm bảo tính nhất quán của các phản ứng hóa học trong quá trình khuếch đại photoresist, và trực tiếp cải thiện độ đồng nhất của các kích thước quan trọng.

Lợi thế kỹ thuật:

• Hướng đến độ chính xác, hỗ trợ kiểm soát CD và stack-up ở cấp độ submicron.
• Giải quyết các thách thức trong các ứng dụng chuyên biệt như 3D IC, đóng gói ở cấp độ wafer, quang học silicon và MEMS.
• Thiết kế mô-đun và tích hợp liền mạch với MES/EAP đảm bảo sản xuất hàng loạt ổn định và giám sát năng suất.

Dựa trên Định luật Moore và hơn thế nữa, chúng tôi cam kết trở thành đối tác công nghệ quy trình của bạn, cung cấp dịch vụ thiết bị quang khắc tùy chỉnh vượt qua các thông số tiêu chuẩn, giúp bạn vượt qua các nút thắt quy trình và nâng cao khả năng cạnh tranh của bạn.