Servicios Personalizados

Servicios personalizados

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Servicios Personalizados

A medida que la industria de semiconductores entra en una era de procesos avanzados e integración heterogénea, la fotolitografía enfrenta desafíos como la mejora de la resolución, el control preciso de superposición y el manejo de obleas deformadas. Cuando el equipo estándar no puede cumplir con los estrictos requisitos de uniformidad dimensional crítica y rendimiento, M&R ofrece soluciones de equipo profundamente personalizadas.


M&R se especializa en el diseño, modificación e integración de módulos de equipo clave en el segmento de fotolitografía, abarcando:
Sistemas de Procesamiento de Fotoresistencias:
Máquinas de recubrimiento y desarrollo personalizadas para fotoresistencias UV, materiales de múltiples patrones y varios sustratos para mejorar la uniformidad del grosor de la película y reducir defectos.
Sistemas de Litografía de Precisión:
Enfocado en mejorar la precisión de superposición y el rendimiento de las máquinas de exposición existentes. Los servicios incluyen la actualización de los sistemas de detección de marcas de alineación para optimizar la superposición en el producto; la calibración de los sistemas de transporte de obleas para mejorar el tiempo de actividad por pulgada (UPH); y la implementación de monitoreo de dosis en tiempo real e integración de APC para lograr una optimización de procesos basada en datos y un control estable.
Sistema de Control de Temperatura:
A través de mediciones y mapeo termocoplados in situ de múltiples puntos, se recalibra la modulación de potencia de la zona del calentador, mejorando significativamente la uniformidad de temperatura a nivel de oblea, asegurando la consistencia de las reacciones de fotoresistencia de amplificación química y mejorando directamente la uniformidad de las dimensiones críticas.

Ventajas Técnicas:

  • Orientado a la precisión, apoyando el control de CD y apilamiento a nivel submicrón.
  • Resolviendo desafíos en aplicaciones especializadas como IC 3D, empaquetado a nivel de oblea, fotónica de silicio y MEMS.
  • El diseño modular y la integración sin fisuras con MES/EAP aseguran una producción en masa estable y un monitoreo de rendimiento.

Impulsados por la Ley de Moore y más allá, estamos comprometidos a convertirnos en su socio en tecnología de procesos, proporcionando servicios de equipos de fotolitografía personalizados que superan las especificaciones estándar, ayudándole a superar cuellos de botella en los procesos y mejorar su competitividad.

Servicios Personalizados | Equipos de Proceso Semiconductores y Optoelectrónicos Personalizados - TECNOLOGÍA NANO M&R

M&R NANO TECHNOLOGY desarrolla equipos de proceso semiconductores y optoelectrónicos para mercados globales. Con 25 años de fabricación de precisión y apoyo en I+D, ayudamos a los clientes a obtener sistemas avanzados que combinan calidad estable, integración de automatización y alta eficiencia.

Nuestra estructura de producción está construida en torno a las necesidades de los clientes que requieren equipos fiables en múltiples aplicaciones optoelectrónicas y de semiconductores. Desde el diseño y fabricación de fotomáscaras hasta soluciones de equipos personalizadas, M&R NANO TECHNOLOGY se centra en la fabricación que mejora la eficiencia del flujo de trabajo, apoya la calidad de prueba estricta de sala limpia Clase 1000 y fortalece el valor operativo.

Para compradores internacionales, M&R NANO TECHNOLOGY ofrece más que máquinas aisladas. Proporcionamos una asociación de fabricación moldeada por una comunicación receptiva, integración de automatización flexible y soporte proactivo de mantenimiento postventa. Esto ayuda a los clientes a construir líneas de producción más sólidas con equipos confiables, posicionamiento personalizado práctico y calidad directa de fábrica en la que pueden confiar.