Máquina de exposición

Máquina de exposición para la transferencia de patrones de litografía, equipo crítico.

Máquina de exposición para la transferencia de patrones de litografía, equipo crítico.

Máquina de exposición

La máquina de exposición es una de las piezas clave de equipo en la fotolitografía de semiconductores, utilizada principalmente para transferir patrones de circuitos de una fotomáscara a un wafer recubierto de fotoresistencia con alta precisión. Funciona utilizando una fuente de luz de longitud de onda específica y un sistema óptico de proyección para reducir y proyectar el patrón de la máscara sobre el wafer, alterando así las propiedades químicas de la fotoresistencia para el posterior desarrollo y formación de patrones.


Las herramientas de exposición requieren una resolución extremadamente alta, precisión de alineación y estabilidad del proceso, con capacidad de superposición a nivel nanométrico y control preciso de la fuente de luz. A medida que avanza la fabricación de semiconductores, las tecnologías de exposición han evolucionado de ultravioleta profundo (DUV) a ultravioleta extremo (EUV), lo que hace que estas herramientas sean críticas para mejorar el rendimiento de los chips y el rendimiento de fabricación, y son indispensables en la fabricación moderna de semiconductores.

Máquina de exposición

  • Monitor:
Resultado 1 - 4 de 4
Alineador de Máscaras Manual - El Alineador de Máscaras Manual de M&R está disponible en diseños de escritorio y de pie.
Alineador de Máscaras Manual

Los alineadores de máscara manual de M&R son adecuados para obleas de 2” a 6”, con un desplazamiento...

Detalles
Alineador de Máscaras Semi-automático - Alineador de Máscaras Semi-automático
Alineador de Máscaras Semi-automático

Los alineadores de máscara semiautomáticos son equipos invaluables en laboratorios de I+D,...

Detalles
Alineador de Máscaras Automático - Alineador de Máscaras Automático
Alineador de Máscaras Automático

Los alineadores automáticos de máscaras son equipos indispensables en procesos de producción...

Detalles
Sistema de Imagen Directa por Láser (LDI) - Máquina de exposición LDI
Sistema de Imagen Directa por Láser (LDI)

La imagen directa por láser (LDI) es una tecnología que utiliza luz láser para dibujar directamente...

Detalles
Resultado 1 - 4 de 4

Máquina de exposición | Equipo de proceso personalizado de semiconductores y optoelectrónica de M&R NANO TECHNOLOGY

M&R NANO TECHNOLOGY ofrece una gama enfocada de equipos de proceso de semiconductores y optoelectrónica, así como sistemas relacionados.Nuestras principales categorías incluyen Máquina de exposición, alineadores de máscara, recubridores por centrifugación y reveladores, ayudando a los compradores a identificar rápidamente el equipo adecuado para aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica y pruebas.

Cada categoría está planificada en torno a la demanda real del mercado para equipos de proceso de alta calidad, combinando nuestros 25 años de experiencia en fabricación con un diseño práctico de equipos, capacidades de automatización y pruebas estrictas en salas limpias de Clase 1000. Esto facilita a los clientes de la industria la búsqueda de sistemas que cumplan tanto con las expectativas funcionales como con los requisitos de producción a largo plazo.

Al organizar nuestras categorías de productos en torno al uso profesional, M&R TECNOLOGÍA NANO ofrece a los compradores una forma más clara de explorar equipos de proceso semiconductores y optoelectrónicos con un soporte de I+D confiable y una planificación de equipos consistente. El resultado es una alineación de categorías que es práctica para la adquisición, fácil de entender y útil para los clientes internacionales de fabricación de alta tecnología.