曝光機

曝光機是半導體光刻製程中的核心設備之一，主要用於將電路圖形從光罩精準轉移至塗佈光阻的晶圓表面。其運作原理是利用特定波長的光源，透過投影光學系統將光罩上的圖案縮小並曝光於晶圓上，改變光阻材料的化學性質，以便後續顯影形成電路結構。曝光機對於解析度、對位精度及製程穩定性要求極高，需具備奈米級的對準能力與高度穩定的光源控制。隨著先進製程技術發展，從深紫外光（DUV）到極紫外光（EUV），曝光機技術不斷演進，成為影響晶片性能與製造良率的關鍵因素，是半導體製造中不可或缺的核心設備。