
科毅科技推出新一代 MCS 光罩除塵機 以無接觸潔淨與智慧偵測強化曝光製程穩定性
協助半導體與光電產線強化曝光製程穩定性並提升良率
在先進半導體製程中,任何微小顆粒都可能牽動整體良率表現,甚至對生產進度造成不可逆的影響。為協助晶圓廠全面提升製程潔淨度與稼動效率,科毅科技正式推出全新一代 MCS 光罩除塵機,以「高潔淨、高智能、高速度」三大核心能力重新定義光罩潔淨技術標準,為全球曝光製程帶來革命性的升級體驗。
02 Jan, 2026
MCS 光罩除塵機搭載創新的微粒氣流導引技術,可針對微米至亞微米級的顆粒污染進行定向、高效、低風切震動的清除,避免傳統清潔方式可能造成的二次污染或清潔死角,大幅提升光罩表面的可用性與穩定性。同時整合智能掃描感測 AI 模組,能自動判別污染位置與種類,讓清潔流程精準、可重複、具一致性,滿足先進製程對高度可靠性的需求。
在運動控制方面,MCS 系統採用 高精度伺服平台與動態補償演算法,使整體清潔動作更流暢、更快速,並確保在高速運作下仍維持極低震動與最佳清潔效率。此技術優勢使 MCS 不僅是單純的設備升級,更是協助產線提升良率與稼動的策略性工具。
科毅科技指出,導入 MCS 光罩除塵機後,客戶可明顯感受到 光罩報廢率下降、製程穩定度提升、污染造成的停線與重工次數降低 等關鍵效益。對於追求高良率與高產能的先進製程產線而言,MCS 所帶來的不只是成本降低,更是一套完整、智慧化的潔淨管理方案。
「這不只是除塵設備,而是企業打造更智慧、更高效、更可靠曝光製程的關鍵武器。」科毅科技強調,未來將持續投入潔淨技術、AI 檢測與自動化控制領域的研發,協助半導體產線面對更嚴苛的製程挑戰,邁向更加精準、潔淨與智慧的製造新時代。

