手動旋轉塗佈機
科毅手動旋轉塗佈機用於光阻與薄膜材料的塗佈試作與製程參數建立，晶圓以真空吸附固定於夾具上，透過馬達旋轉產生離心力，使光阻均勻展開於基板表面。設備本體採用...
手動曝光機
科毅手動曝光機適用於 2” 至 6” 晶圓，XY 行程達 200mm，部分型號配備電動驅動，最小微調解析度可達到40...
半自動曝光機
半自動曝光機在研發實驗室、小量產線與新產品開發環境中是極具價值的設備。使用者面對的主要挑戰通常是曝光品質不穩定、操作差異大、對準精度需提升等問題，而半自動曝光機透過程式化控制光源強度、曝光時間與對位動作，有效降低人為誤差，使每次曝光結果保持一致，是建立標準化製程的重要工具。 其特點在於半自動對位系統、可程控曝光參數、穩定的光源輸出與直觀操作介面，同時保留人工調整的彈性，讓工程師可針對新材料、新光阻或新結構快速進行條件優化。相較於手動設備，它能大幅提升重現性與對準精度；相較於全自動設備，又具備更高的成本效益與更短的導入週期。選用半自動曝光機的單位多為MEMS開發實驗室、光電元件研究、晶片設計試製、新創製程團隊，或需要小量多樣化製程的環境。它能有效解決...
自動曝光機
自動曝光機在量產製程與高精度研發中是不可或缺的設備，其最大效益在於能以全自動流程完成取片、對位、曝光與出片動作，大幅提升產能與製程一致性。透過高穩定度的平行光源、精密自動對位系統與程式化控制，自動曝光機能確保線寬、圖樣邊緣與曝光能量的高度一致，協助製程工程師有效提升良率並降低每片晶圓的變異。 選用自動曝光機的理由多為：提升產能、縮短製程節拍、確保品質一致性、降低人力成本、滿足高精度製程需求。它特別適用於晶片量產廠、MEMS...
LDI雷射直寫曝光機
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直寫曝光機是一種利用雷射光直接在光阻上繪製圖案的技術，省去傳統光罩製作步驟。它廣泛應用於PCB製造、半導體微影及薄膜元件，具有高精度、靈活快速及適合小批量生產的優點。 Laser...
曝光機驅動器
曝光機的驅動器負責接收控制系統指令並精準驅動馬達，是平台運動控制的關鍵元件。其高解析度電流控制與高速閉迴路運算，可確保平台在加減速、微位移與高速掃描時維持平滑穩定的動態表現，提升對位與曝光精度。 科毅科技的驅動器支援多軸同步運動，可同時協調...
曝光機馬達
曝光機專用高精度馬達是影像對位與平台傳動的核心動力。馬達是曝光機中的整體傳動系統的核心元件，負責驅動晶圓平台、對位模組與精密移動機構，其性能直接影響曝光品質、線寬均勻度與整體製程穩定性。因此，馬達必須具備高精度定位、超低震動、高重現性與優異動態響應能力。 科毅科技所使用的高精度馬達採用高解析度回授編碼器（Encoder），能達到奈米級定位解析度，確保在曝光過程中平台移動平滑、精準，不會因機械位移誤差而影響圖樣成像品質。其內部採用低齒槽轉矩設計，可有效降低震動與速度波動，使平台移動更一致，對高階微影製程極為重要。
光罩
科毅科技提供高解析度、低缺陷的光罩製作服務，支援 MEMS、光電、感測器與半導體等微影製程需求。採用高平坦度基板與高品質鉻膜，確保曝光圖樣能精準轉移至光阻層，協助客戶提升曝光成功率、縮短研發與試產週期。無論應用於研發驗證、原型製作或小量試產，皆能提供穩定可靠的製程支援。 在材料與製作品質上，科毅科技可依據客戶版圖與製程需求，選用石英或玻璃等高平坦度基板，搭配具備良好光學穩定性的鉻膜（Cr）或專用光學材料，支援從微米級到奈米級線寬的圖樣轉移。同時提供完整的前後段配套服務，包含版圖檢查、資料轉換、尺寸驗證與瑕疵檢測，讓客戶能安心專注於製程開發與量產導入。快速交期與穩定品質，使科毅成為眾多學研單位與產業客戶長期合作的光罩服務夥伴。
壓力傳感器
科毅公司提供的壓力傳感器為專門應用於曝光機的關鍵零組件，主要用於即時監測曝光機真空腔體與氣壓環境，確保曝光腔室在穩定壓力條件下運作。透過高精度、連續性的壓力監測，可有效避免因腔體壓力波動所導致的曝光不良、線寬偏移或製程穩定性下降，是維持微影製程品質與良率的重要基礎元件。
移機規劃
科毅公司提供的移機服務，是專為半導體等高科技產業的高精度設備所設計的專業工程服務。服務的核心不僅是將設備從...