塗佈機

旋轉塗佈機是半導體製程中重要的前段設備之一，主要用於在晶圓表面均勻塗佈光阻或其他薄膜材料。其運作原理是將液態光阻滴置於晶圓中心，透過高速旋轉產生離心力，使材料均勻展開並形成精確厚度的薄膜。塗佈品質直接影響後續曝光與顯影製程的解析度與穩定性，因此對轉速控制、加速度、塗佈時間及環境潔淨度均有嚴格要求。現代旋轉塗佈機通常配備自動化控制系統與精密流量管理，以確保膜厚一致性與製程重現性。隨著先進製程發展，對薄膜均勻性與缺陷控制的要求日益提高，使旋轉塗佈機成為確保晶片品質與良率的重要設備之一。