設備特點包含自動滴料系統、可程控加速曲線、高精度馬達控制、閉迴路轉速穩定、真空吸附平台、密閉潔淨塗佈腔體等設計，讓薄膜厚度從奈米級至微米級皆能精準掌握。即使連續運轉，也能保持高度穩定，不會因操作員差異而影響結果。

科毅科技的全自動旋轉塗佈機是一款高階的製程設備，專門設計用於平面顯示器、印刷電路板（PCB）、半導體、IC 構裝、發光二極體（LED）、太陽能電池、電子元件、光電元件等需要精準塗佈光阻或製程液體的產業應用。這款設備的核心功能在於實現光阻劑在晶圓或基板上的均勻塗佈，同時支援多種製程功能，確保了高品質與高效率的產線運作。

科毅的自動旋轉塗佈機的設計強調自動化與高穩定性。它可適用於 2 英吋至 12 英吋 的晶圓或基板。其結構採用了耐腐蝕、耐磨損的材質，如 PP、SUS、PTFE、鋁合金、PVC…等結構，確保了設備的耐用性與製程潔淨度。

產品規格

• 適用尺寸：2吋~12吋CHUCK。
• 旋塗倉體2部、旋轉馬達(10~6000RPM)。
• 供藥(光阻、洗邊劑)回吸閥+噴嘴噴塗系統。
• 清洗(DIW、N2)回吸閥+噴嘴噴灑系統。
• 排廢液系統。
• 全域HEPA(符合100class)、靜電離消除器、黃光照明、旋塗倉體抽氣。
• 雙臂晶圓傳送手臂 + 晶圓巡邊機。
• 晶舟cassettes放置架2部。
• Mapping功能、RFID讀取裝置、Wafer ID讀取裝置、Interlock防護裝置。
• Hotplat + Coldplate。
• PLC + IPC控制介面。

產品配備

• 光阻旋塗裝置2部(單一晶圓尺寸使用CHUCK)。
• 光阻噴塗系統(壓力桶供應)。
• 排廢液系統(廠務排放)。
• Interlock防護裝置、壓力桶液位檢知功能、漏液檢知器、EMO緊急安全按鈕。
• 雙臂晶圓傳送手臂 + 晶圓巡邊機。
• 晶舟open cassettes放置架2部。
• Mapping功能、RFID讀取裝置、Wafer ID讀取裝置、Interlock防護裝置。
• Hotplat + Coldplate。
• PLC + IPC控制介面，程式log儲存。
• 全域HEPA(符合100class)、靜電離消除器、黃光照明。

產品選配

• 多組不同尺寸使用CHUCK&置中置具。
• DIW、清洗劑、N2噴灑系統(壓力桶或廠務供給)。。
• 洗邊、洗背噴灑系統(壓力桶或廠務供給)。
• 藥液回吸閥控制(防止滴液)。
• 鐵氟龍CHUCK。
• 光阻供給客製直接銜接客戶PR瓶。
• 光阻供料瓶秤重(監測噴吐量與剩餘劑量)。
• 設備通訊協定SECS/GEM

應用產業

• 平面顯示器
• 印刷電路板(PCB)
• 半導體、IC構裝、鋰電池等電子、光電、儲能等需要塗佈光阻之產業應用