Centrífuga de recubrimiento automática | M&R TECNOLOGÍA NANO Equipos de Proceso Semiconductores & Optoelectrónicos
Los recubridores automáticos son reconocidos por su alta estabilidad y reproducibilidad en los procesos de recubrimiento de obleas, lo que los hace particularmente adecuados para líneas de producción en masa, centros de I+D con un control de calidad estricto y aplicaciones que requieren un control preciso del grosor de la película. Su mayor ventaja radica en su proceso completamente automatizado, que completa la dispensación, aceleración, rotación y secado, asegurando que cada oblea se recubra bajo condiciones completamente consistentes. Esto reduce significativamente la variación del grosor de la película y el error humano, optimizando la uniformidad del recubrimiento.
Las principales razones para elegir un recubridor por centrifugación automatizado incluyen: la necesidad de películas altamente uniformes, un aumento en la capacidad de producción, la reducción de la carga operativa, la evitación de desviaciones en el grosor de la película causadas por un volumen de líquido y una velocidad de rotación inestables, y el establecimiento de procesos de recubrimiento estandarizados y producidos en masa. En comparación con equipos semiautomáticos o manuales, resuelve completamente problemas como el grosor de película inconsistente, grandes variaciones experimentales y dispensación manual inexacta. Las aplicaciones abarcan el recubrimiento de fotoresistencias, la fabricación de MEMS, materiales optoelectrónicos, fabricación de sensores, tratamiento previo al empaquetado y investigación de nanofilms. En general, el recubridor automático logra el equilibrio óptimo entre los requisitos de alta calidad y las necesidades de producción en masa, convirtiéndolo en una pieza clave de equipo para crear un proceso de recubrimiento estable y controlable.Elija M&R NANO TECHNOLOGY para equipos de proceso de semiconductores y optoelectrónicos de alta calidad y fabricación personalizada confiable.
Centrífuga de recubrimiento automática
Los recubridores automáticos son reconocidos por su alta estabilidad y reproducibilidad en los procesos de recubrimiento de obleas, lo que los hace particularmente adecuados para líneas de producción en masa, centros de I+D con un control de calidad estricto y aplicaciones que requieren un control preciso del grosor de la película. Su mayor ventaja radica en su proceso completamente automatizado, que completa la dispensación, aceleración, rotación y secado, asegurando que cada oblea se recubra bajo condiciones completamente consistentes. Esto reduce significativamente la variación del grosor de la película y el error humano, optimizando la uniformidad del recubrimiento.
Las principales razones para elegir un recubridor por centrifugación automatizado incluyen: la necesidad de películas altamente uniformes, un aumento en la capacidad de producción, la reducción de la carga operativa, la evitación de desviaciones en el grosor de la película causadas por un volumen de líquido y una velocidad de rotación inestables, y el establecimiento de procesos de recubrimiento estandarizados y producidos en masa. En comparación con equipos semiautomáticos o manuales, resuelve completamente problemas como el grosor de película inconsistente, grandes variaciones experimentales y dispensación manual inexacta. Las aplicaciones abarcan el recubrimiento de fotoresistencias, la fabricación de MEMS, materiales optoelectrónicos, fabricación de sensores, tratamiento previo al empaquetado y investigación de nanofilms. En general, el recubridor automático logra el equilibrio óptimo entre los requisitos de alta calidad y las necesidades de producción en masa, convirtiéndolo en una pieza clave de equipo para crear un proceso de recubrimiento estable y controlable.
Características del equipo
Las características del equipo incluyen un sistema de dispensación automatizado, curvas de aceleración programables, control de motor de alta precisión, estabilidad de velocidad en bucle cerrado, una plataforma de adsorción al vacío y una cámara de recubrimiento sellada y limpia, lo que permite un control preciso del grosor de la película desde niveles de nanómetros hasta micrómetros. Incluso durante la operación continua, mantienen una alta estabilidad, sin verse afectadas por las variaciones del operador.
Ventajas de la recubridora giratoria automática de M&R
El recubridor de giro totalmente automatizado de M&R es un equipo de proceso de alta gama diseñado específicamente para aplicaciones industriales que requieren un recubrimiento preciso de fotoresistencias o líquidos de proceso, como pantallas de panel plano, placas de circuito impreso (PCBs), semiconductores, empaques de circuitos integrados, diodos emisores de luz (LEDs), celdas solares, componentes electrónicos y componentes optoelectrónicos. La función principal de este equipo es lograr un recubrimiento uniforme de fotoresistencia en obleas o sustratos, mientras soporta múltiples funciones de proceso para garantizar una operación de línea de producción de alta calidad y alta eficiencia.</p>
<p>El recubridor automático de 'M&R' está diseñado con automatización y alta estabilidad en mente. Es adecuado para obleas o sustratos que van de 2 pulgadas a 12 pulgadas. Su estructura utiliza materiales resistentes a la corrosión y al desgaste, como PP, SUS, PTFE, aleación de aluminio y PVC, asegurando la durabilidad del equipo y la limpieza del proceso.
En términos de funciones clave y configuraciones, el spin coater totalmente automatizado de M&R logra un proceso completamente automatizado desde el pretratamiento hasta el horneado:
- Manejo y Transferencia de Wafers/Substratos: El equipo viene estándar con un brazo de transferencia automatizado, que permite la transferencia y recepción automática de wafers o substratos de las cassettes al área de recubrimiento. Cuenta con capacidades de mapeo, lectores de RFID y lectura de ID de wafers para garantizar la trazabilidad del material y el control del proceso.
- Recubrimiento y Horneado: El componente principal incorpora un módulo de Placa Caliente + Placa Fría para realizar un horneado suave antes del recubrimiento de fotoresistencia, un horneado duro después del recubrimiento, o pasos de enfriamiento requeridos durante el proceso, asegurando un grosor de película de fotoresistencia estable.
- Limpieza y Ventilación: El equipo integra un sistema de limpieza por retroceso de DIW/N2 y limpieza rotativa, un módulo de limpieza por pulverización de disolvente/DIW, y una función separada de eliminación de neblina de desarrollador para garantizar un proceso limpio y prevenir que residuos de partículas o químicos afecten la calidad del proceso.
- Control del sistema: El equipo adopta una arquitectura de control PLC + IPC y soporta interfaces de comunicación SECS/GEM, lo que permite un control simplificado y estandarizado de todo el proceso de la máquina y facilita la integración con los sistemas de gestión de la fábrica.
A través de estas funciones de automatización integrales, la máquina de recubrimiento rotativa completamente automática M&R no solo mejora significativamente la eficiencia de producción, sino que también garantiza la estabilidad del proceso, la uniformidad y la reproducibilidad a través de un posicionamiento preciso y control en bucle cerrado.
Especificaciones
- Tamaños aplicables: pollitos de 2 pulgadas a 12 pulgadas.
- Dos recubridores por centrifugación, motores rotativos (10-6000 RPM).
- Válvula de succión trasera + sistema de pulverización de boquilla para suministro químico (fotoresist, limpiador de bordes).
- Válvula de succión trasera + sistema de pulverización de boquilla para limpieza (DIW, N2).
- Sistema de drenaje de líquidos residuales.
- Filtro HEPA EPA de área completa (cumple con la Clase 100), eliminador electrostático, iluminación de luz amarilla, escape de spin coater.
- Brazo de transferencia de obleas de doble brazo + máquina de inspección de bordes de obleas.
- Dos estantes para casetes.
- Función de mapeo, lector RFID, lector de ID de obleas, dispositivo de protección de enclavamiento.
- Placa caliente + placa fría.
- Interfaz de control PLC + IPC.
Configuración
- Dos unidades de recubrimiento por centrifugado de fotoresistencia (CHUCK para tamaño de oblea única).
- Sistema de rociado de fotoresistencia (suministro de tanque de presión).
- Sistema de descarga de aguas residuales (descarga de planta).
- Dispositivo de protección de enclavamiento, función de detección de nivel de tanque de presión, detector de fugas, botón de seguridad de emergencia EMO.
- Brazo de transferencia de obleas de doble brazo + máquina de inspección de bordes de obleas.
- Dos estantes de cassette abiertos.
- Función de mapeo, lector RFID, lector de ID de obleas, dispositivo de protección de enclavamiento.
- Placa caliente + placa fría.
- Interfaz de control PLC + IPC, almacenamiento de registro de programas.
- Filtro HEPA de área completa (cumple con la Clase 100), eliminador electrostático, iluminación de luz cálida.
Opciones
- Múltiples conjuntos de diferentes tamaños de CHUCK y dispositivos de centrado.
- DIW, agente de limpieza, sistema de rociado de N2 (tanque de presión o suministro de planta).
- Sistema de rociado de lavado de bordes y lavado posterior (tanque de presión o suministro de planta).
- Control de válvula de retroceso líquido (previene goteos).
- CHUCK de teflón.
- Suministro de fotoresistencia personalizado que se conecta directamente a las botellas de PR del cliente.
- Pesaje de botellas de suministro de fotoresistencia (monitorea el volumen de rociado y la dosis restante).
- Protocolo de comunicación de equipos SECS/GEM
Aplicaciones
- Pantallas de panel plano
- Placas de circuito impreso (PCBs)
- Industrias que requieren recubrimiento de fotoresistencias, como semiconductores, empaquetado de circuitos integrados, baterías de litio y otras aplicaciones electrónicas, optoelectrónicas y de almacenamiento de energía.
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Centrífuga de recubrimiento automáticaEquipo de Proceso de Semiconductores y Optoelectrónicos Personalizado Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY proporciona Centrífuga de recubrimiento automática de alta calidad y equipos de proceso de semiconductores y optoelectrónica diseñados para aplicaciones avanzadas de semiconductores, optoelectrónica y pruebas.Nuestra línea de productos incluye alineadores de máscara detallados, recubridores por centrifugación y reveladores fabricados en nuestra instalación de Taoyuan, Taiwán, con fuertes capacidades de automatización.
Nos enfocamos en ofrecer calidad estable y personalización precisa a través de nuestra I+D interna y tecnología de miniaturización. Esto asegura que cada sistema cumpla con estrictos requisitos de proceso mientras mantiene durabilidad práctica, bajo costo y alta eficiencia para los usuarios finales.
Para compradores globales, M&R NANO TECHNOLOGY ofrece un soporte de fabricación confiable que simplifica el proceso de abastecimiento. Proporcionamos comunicación receptiva, integración de automatización eficiente y mantenimiento postventa consistente para ayudar a los clientes a llevar con éxito su equipo de proceso de semiconductores & optoelectrónica a la producción.