在关键功能与配置上，科毅科技的全自动旋转涂布机实现了从前处理到烘烤的全自动流程：

• 晶圆/基板处理与传输：设备标配有自动传送手臂，可实现晶圆或基板从 Cassettes（晶舟盒）到涂布区的自动传送与接收。它具备 Mapping 功能、RFID 读写装置和 Wafer ID 读取功能，确保物料追溯与流程控制。
• 涂布与烘烤：核心部分搭载了 Hotplate + Coldplate 模块，用于完成光阻涂布前的软烤（Soft Bake）、涂布后的硬烤（Hard Bake）或制程中所需的冷却步骤，确保光阻膜厚稳定。
• 清洗与排气：设备内建 DIW/N2 回喷与回转清洗系统、溶剂/DIW 喷洒清洗模块、以及单独的显影液气雾消除功能，确保制程洁净，避免颗粒或化学残留影响制程质量。
• 系统控制：设备采用 PLC + IPC 控制架构，并支持 SECS/GEM 通讯接口，实现全机台流程化与标准化控制，方便与工厂管理系统整合。

透过这些完整的自动化功能，科毅科技全自动旋转涂布机不仅能大幅提升生产效率，也透过精密定位与闭回路控制，保障了制程的稳定性、均匀性及再现性。

产品规格

• 适用尺寸：2吋~12吋CHUCK。
• 旋涂仓体2部、旋转马达(10~6000RPM)。
• 供药(光阻、洗边剂)回吸阀+喷嘴喷涂系统。
• 清洗(DIW、N2)回吸阀+喷嘴喷洒系统。
• 排废液系统。
• 全局HEPA(符合100class)、静电离消除器、黄光照明、旋涂仓体抽气。
• 双臂晶圆传送手臂 + 晶圆巡边机。
• 晶舟cassettes放置架2部。
• Mapping功能、RFID读取装置、Wafer ID读取装置、Interlock防护装置。
• Hotplat + Coldplate。
• PLC + IPC控制接口。

产品配备

• 光阻旋涂装置2部(单一晶圆尺寸使用CHUCK)。
• 光阻喷涂系统(压力桶供应)。
• 排废液系统(厂务排放)。
• Interlock防护装置、压力桶液位检知功能、漏液检知器、EMO紧急安全按钮。
• 双臂晶圆传送手臂 + 晶圆巡边机。
• 晶舟open cassettes放置架2部。
• Mapping功能、RFID读取装置、Wafer ID读取装置、Interlock防护装置。
• Hotplat + Coldplate。
• PLC + IPC控制接口，程序log储存。
• 全局HEPA(符合100class)、静电离消除器、黄光照明。

产品选配

• 多组不同尺寸使用CHUCK&置中置具。
• DIW、清洗剂、N2喷洒系统(压力桶或厂务供给)。。
• 洗边、洗背喷洒系统(压力桶或厂务供给)。
• 药液回吸阀控制(防止滴液)。
• 铁氟龙CHUCK。
• 光阻供给客制直接衔接客户PR瓶。
• 光阻供料瓶秤重(监测喷吐量与剩余剂量)。
• 设备通讯协议SECS/GEM

应用产业

• 平面显示器
• 印刷电路板(PCB)
• 半导体、IC构装、锂电池等电子、光电、储能等需要涂布光阻之产业应用