曝光机

曝光机是半导体光刻制程中的核心设备之一，主要用于将电路图形从光罩精准转移至涂布光阻的晶圆表面。其运作原理是利用特定波长的光源，透过投影光学系统将光罩上的图案缩小并曝光于晶圆上，改变光阻材料的化学性质，以便后续显影形成电路结构。曝光机对于分辨率、对位精度及制程稳定性要求极高，需具备奈米级的对准能力与高度稳定的光源控制。随着先进制程技术发展，从深紫外光（DUV）到极紫外光（EUV），曝光机技术不断演进，成为影响芯片性能与制造良率的关键因素，是半导体制造中不可或缺的核心设备。