科毅的手动曝光机是一款专为初期研发、实验室与小量试制打造的高 CP 值曝光设备。其最大特色，就是以入门级、桌上型的精巧设计，提供最灵活、最经济的微影解决方案。设备体积小、容易安装，不仅能节省实验空间，也大幅降低购置成本，特别适合预算有限、需要多台分布式工作站的团队。

手动操作更是这款设备的重要优势。对位方式直观、好学，不论是学生、研究人员或工程师，都能快速上手并立即投入制程验证。因为没有复杂的自动化流程，用户可以自由调整各项参数，方便进行试验、错误修正与制程探索。

在样品保护上，部分型号采用非接触式设计，能避免压伤晶圆，对薄芯片、MEMS 结构或翘曲晶圆尤其友善，大幅提升实验的成功率与可靠性。

值得一提的是，科毅手动曝光机具备高度升级弹性。使用者可依需求选配电动平台，将 XY 轴精度提升至 40 nm，从手动入门一路升级到进阶验证，不需更换整套设备，延展性极高。

科毅手动曝光机以低成本、易操作、高稳定度与可扩充性，为客户提供了一个兼具弹性与效益的微影制程起点，是教育单位、研发中心与新创团队的理想选择。

产品规格

• 适用晶圆尺寸：2”～6”
• XY 行程：200mm
• XY 轴精度：电动 40nm / 手动 1µm (依型号不同)
• Z 轴行程：无或简易调整机构
• 对位精度：1.0~2.0µm (手动)
• 曝光分辨率：0.8µm～1.0µm
• 对位方式：人工视觉辨识
• 曝光模式：非接触 / 接触式 (依型号不同)
• 控制系统：IPC (部分型号)

产品配备

• 桌上型轻量化设计
• 基本曝光控制模块
• IPC 操作接口 (部分型号)

产品选配

• 简易真空吸盘光罩固定
• 客制化光学模块
• 基本影像辅助对位系统

应用产业

• 研究单位与大学实验室
• 初期制程开发
• 光电与 MEMS 研发
• 小批量试制