Handmasken-Aligner
Die manuellen Maskenausrichter von M&R sind für Wafer von 2" bis 6" geeignet, mit einer XY-Bewegung von bis zu 200 mm. Einige Modelle sind mit elektrischen Antrieben ausgestattet, und die minimale Feinabstimmungsauflösung kann 40 nm erreichen. Das Standardmodell bietet eine manuelle Präzision auf 1µm-Ebene und vereint Flexibilität mit Kosten-Effizienz. Die Ausrichtung erfolgt durch die visuelle Identifikation des Menschen, mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von etwa 1,0~2,0µm, geeignet für F&E- und experimentelle Anwendungen. Einige Modelle bieten kontaktlose Belichtung, vermeiden Schäden an der Waferoberfläche und verbessern die Probenkonservierung. Das Systemdesign ist einfach, die Wartung ist unkompliziert, und es kann mit einem IPC-Steuermodul ausgestattet werden, um grundlegendes Datenmanagement und eine Betriebsoberfläche bereitzustellen.
Dieses Modell wird häufig an Universitäten, Forschungseinrichtungen und in der frühen Prozessprüfung in der Optoelektronik, MEMS und anderen Bereichen eingesetzt, um den Benutzern zu helfen, die Entwicklung und Verifizierung von Belichtungsprozessen auf die wirtschaftlichste Weise abzuschließen.
Vorteile des manuellen Maskenausrichters von M&R
Der manuelle Maskenausrichter von M&R ist ein Hochleistungsbelichtungsgerät, das für die frühe Forschung und Entwicklung, den Laborgebrauch und die Kleinserienprototypenentwicklung konzipiert ist. Das größte Merkmal ist das kompakte, Einstiegs-Desktop-Design, das die flexibelste und wirtschaftlichste Lithografielösung bietet. Die kompakte Größe des Geräts und die einfache Installation sparen Platz im Experiment und senken die Anschaffungskosten erheblich, was es besonders geeignet für Teams mit begrenztem Budget macht, die mehrere verteilte Arbeitsstationen benötigen.
Die manuelle Bedienung ist ein entscheidender Vorteil dieses Geräts. Die Ausrichtungsmethode ist intuitiv und leicht zu erlernen, sodass Studenten, Forscher und Ingenieure schnell starten und sofort mit der Prozessvalidierung beginnen können. Da es keine komplexen automatisierten Prozesse gibt, können die Benutzer verschiedene Parameter frei anpassen, was Experimente, Fehlerkorrekturen und die Erkundung von Prozessen erleichtert.
Zum Schutz der Proben verwenden einige Modelle ein kontaktloses Design, das Schäden an den Wafern verhindert. Dies ist besonders vorteilhaft für dünne Wafer, MEMS-Strukturen oder verzogene Wafer, was die Erfolgsquoten und die Zuverlässigkeit von Experimenten erheblich verbessert.
Es ist erwähnenswert, dass der manuelle Maskenausrichter von M&R eine hohe Upgrade-Flexibilität bietet. Benutzer können die motorisierte Plattform wählen, um die XY-Achsen-Genauigkeit auf 40 nm zu verbessern, und von der manuellen Einsteiger- zur fortgeschrittenen Verifizierung aufrüsten, ohne das gesamte System ersetzen zu müssen, was eine extrem hohe Skalierbarkeit bietet.
Der manuelle Maskenausrichter von M&R bietet Kunden aufgrund seiner geringen Kosten, einfachen Bedienung, hohen Stabilität und Skalierbarkeit einen flexiblen und effizienten Ausgangspunkt für Lithografieprozesse, was ihn zu einer idealen Wahl für Bildungseinrichtungen, F&E-Zentren und Startups macht.
Spezifikationen
- Anwendbare Wafergröße: 2”~6”
- XY-Verfahrweg: 200mm
- XY-Achsen-Genauigkeit: 40nm motorisiert / 1µm manuell (je nach Modell)
- Z-Achsen-Verfahrweg: Keine oder einfache Einstellmechanik
- Ausrichtungsgenauigkeit: 1,0~2,0µm (manuell)
- Belichtungsauflösung: 0,8µm~1,0µm
- Ausrichtungsmethode: Menschliche visuelle Identifikation
- Belichtungsmodus: Kontaktlos / Kontakt (je nach Modell)
- Steuersystem: IPC (einige Modelle)
Konfiguration
- Desktop-Leichtbauweise
- Grundmodul zur Belichtungssteuerung
- IPC-Schnittstelle (für einige Modelle)
Optionen
- Einfache Vakuumsaugnapf-Photomaskenmontage
- Angepasste optische Module
- Grundlegendes bildunterstütztes Ausrichtungssystem
Anwendungen
- Forschungseinrichtungen und Universitätslabore
- Erste Prozessentwicklung
- Optoelektronik und MEMS F&E
- Kleinserien-Pilotproduktion
Handmasken-AlignerProfessionelle maßgeschneiderte Halbleiter- & optoelektronische Prozessgeräte
M&R NANO TECHNOLOGY bietet hochwertige Handmasken-Aligner sowie Halbleiter- und optoelektronische Prozessgeräte, die für fortschrittliche Halbleiter-, optoelektronische und Testanwendungen entwickelt wurden.Unsere Produktlinie umfasst detaillierte Masken-Aligner, Spin-Coater und Entwickler, die in unserem Werk in Taoyuan, Taiwan, mit starken Automatisierungsfähigkeiten hergestellt werden.
Wir konzentrieren uns darauf, stabile Qualität und präzise Anpassungen durch unsere interne Forschung und Entwicklung sowie Miniaturisierungstechnologie zu liefern. Dies stellt sicher, dass jedes System strengen Prozessanforderungen entspricht und gleichzeitig praktische Haltbarkeit, niedrige Kosten und hohe Effizienz für die Endbenutzer aufrechterhält.
Für globale Käufer bietet M&R NANO TECHNOLOGY zuverlässige Fertigungsunterstützung, die den Beschaffungsprozess vereinfacht. Wir bieten reaktionsschnelle Kommunikation, effiziente Automatisierungsintegration und konsistente Wartung nach dem Verkauf, um unseren Kunden zu helfen, ihre Halbleiter- und optoelektronischen Prozessgeräte erfolgreich in die Produktion zu bringen.



