M&R의 매뉴얼 마스크 정렬기는 초기 단계 R&D, 실험실 사용 및 소규모 프로토타입을 위해 설계된 고성능 노출 장치입니다. 가장 큰 특징은 컴팩트한 입문용 데스크탑 디자인으로, 가장 유연하고 경제적인 리소그래피 솔루션을 제공한다. 장치의 작은 크기와 설치 용이성은 실험 공간을 절약하고 구매 비용을 크게 줄여주어, 여러 개의 분산 작업 공간이 필요한 제한된 예산의 팀에 특히 적합합니다.
 
수동 조작은 이 장치의 주요 장점입니다. 정렬 방법은 직관적이고 배우기 쉬워 학생, 연구원 및 엔지니어가 빠르게 시작하고 즉시 프로세스 검증을 시작할 수 있습니다. 복잡한 자동화 프로세스가 없기 때문에 사용자는 다양한 매개변수를 자유롭게 조정할 수 있어 실험, 오류 수정 및 프로세스 탐색을 용이하게 합니다.
 
샘플 보호를 위해 일부 모델은 비접촉 설계를 채택하여 웨이퍼 손상을 방지합니다. 이는 특히 얇은 웨이퍼, MEMS 구조 또는 휘어진 웨이퍼에 유리하며, 실험 성공률과 신뢰성을 크게 향상시킵니다.
 
M&R의 수동 마스크 정렬기는 높은 업그레이드 유연성을 제공합니다. 사용자는 모터화된 플랫폼을 장착하여 XY 축 정확도를 40nm로 향상시킬 수 있으며, 전체 시스템을 교체하지 않고도 수동 초보자에서 고급 검증으로 업그레이드할 수 있어 매우 높은 확장성을 제공합니다.
 
M&R의 매뉴얼 마스크 정렬기는 저렴한 비용, 쉬운 조작, 높은 안정성 및 확장성 덕분에 고객에게 리소그래피 프로세스를 위한 유연하고 효율적인 출발점을 제공합니다. 이는 교육 기관, 연구개발 센터 및 스타트업에 이상적인 선택입니다.

사양

• 적용 가능한 웨이퍼 크기: 2”～6”
• XY 이동 거리: 200mm
• XY 축 정확도: 40nm 모터식 / 1µm 수동 (모델에 따라 다름)
• Z 축 이동 거리: 없음 또는 간단한 조정 메커니즘
• 정렬 정확도: 1.0~2.0µm (수동)
• 노출 해상도: 0.8µm～1.0µm
• 정렬 방법: 인간 시각 식별
• 노출 모드: 비접촉식 / 접촉식 (모델에 따라 다름)
• 제어 시스템: IPC (일부 모델)

구성

• 데스크탑 경량 디자인
• 기본 노출 제어 모듈
• IPC 인터페이스 (일부 모델용)

옵션

• 간단한 진공 흡입 컵 포토마스크 장착
• 맞춤형 광학 모듈
• 기본 이미지 보조 정렬 시스템

응용 프로그램

• 연구 기관 및 대학 실험실
• 초기 공정 개발
• 광전자 및 MEMS 연구개발
• 소량 파일럿 생산