Alineador de Máscaras Manual | M&R TECNOLOGÍA NANO Equipos de Proceso Semiconductores & Optoelectrónicos
Los alineadores de máscara manual de M&R son adecuados para obleas de 2” a 6”, con un desplazamiento XY de hasta 200 mm. Algunos modelos están equipados con motores eléctricos, y la resolución mínima de ajuste fino puede alcanzar 40 nm. El modelo estándar ofrece una precisión manual de nivel 1µm, equilibrando flexibilidad y rentabilidad. La alineación se logra a través de la identificación visual humana, con una precisión de alineación de aproximadamente 1.0~2.0µm, adecuada para aplicaciones de I+D y experimentales. Algunos modelos ofrecen exposición sin contacto, evitando daños en la superficie del wafer y mejorando la preservación de la muestra. El diseño del sistema es simple, el mantenimiento es fácil y se puede equipar con un módulo de control IPC para proporcionar gestión de datos básica e interfaz de operación.
Este modelo se utiliza ampliamente en universidades, instituciones de investigación y pruebas de procesos en etapas tempranas en optoelectrónica, MEMS y otros campos, ayudando a los usuarios a completar el desarrollo y la verificación de procesos de exposición de la manera más económica.Elija M&R NANO TECHNOLOGY para equipos de proceso de semiconductores y optoelectrónicos de alta calidad y fabricación personalizada confiable.
Alineador de Máscaras Manual
Los alineadores de máscara manual de M&R son adecuados para obleas de 2” a 6”, con un desplazamiento XY de hasta 200 mm. Algunos modelos están equipados con motores eléctricos, y la resolución mínima de ajuste fino puede alcanzar 40 nm. El modelo estándar ofrece una precisión manual de nivel 1µm, equilibrando flexibilidad y rentabilidad. La alineación se logra a través de la identificación visual humana, con una precisión de alineación de aproximadamente 1.0~2.0µm, adecuada para aplicaciones de I+D y experimentales. Algunos modelos ofrecen exposición sin contacto, evitando daños en la superficie del wafer y mejorando la preservación de la muestra. El diseño del sistema es simple, el mantenimiento es fácil y se puede equipar con un módulo de control IPC para proporcionar gestión de datos básica e interfaz de operación.
Este modelo se utiliza ampliamente en universidades, instituciones de investigación y pruebas de procesos en etapas tempranas en optoelectrónica, MEMS y otros campos, ayudando a los usuarios a completar el desarrollo y la verificación de procesos de exposición de la manera más económica.
Ventajas del alineador de máscara manual de M&R
El alineador de máscara manual de M&R es un dispositivo de exposición de alto rendimiento diseñado para investigación y desarrollo en etapas tempranas, uso en laboratorio y prototipos a pequeña escala. Su característica más destacada es su diseño compacto de escritorio de nivel de entrada, que proporciona la solución de litografía más flexible y económica. El pequeño tamaño del dispositivo y su facilidad de instalación ahorran espacio experimental y reducen significativamente los costos de compra, lo que lo hace particularmente adecuado para equipos con presupuestos limitados que requieren múltiples estaciones de trabajo distribuidas.
La operación manual es una ventaja clave de este dispositivo. El método de alineación es intuitivo y fácil de aprender, lo que permite a estudiantes, investigadores e ingenieros comenzar rápidamente y validar procesos de inmediato. Dado que no hay procesos automatizados complejos, los usuarios pueden ajustar libremente varios parámetros, facilitando la experimentación, la corrección de errores y la exploración de procesos.
Para la protección de muestras, algunos modelos emplean un diseño sin contacto, lo que previene daños en las obleas. Esto es especialmente beneficioso para obleas delgadas, estructuras MEMS o obleas deformadas, mejorando significativamente las tasas de éxito experimental y la fiabilidad.
Vale la pena mencionar que el alineador de máscara manual de M&R ofrece una alta flexibilidad de actualización. Los usuarios pueden optar por equipar la plataforma motorizada para mejorar la precisión del eje XY a 40 nm, actualizándose de verificación manual para principiantes a avanzada sin reemplazar todo el sistema, ofreciendo una escalabilidad extremadamente alta.
El alineador de máscara manual de M&R proporciona a los clientes un punto de partida flexible y eficiente para los procesos de litografía debido a su bajo costo, facilidad de operación, alta estabilidad y escalabilidad, lo que lo convierte en una opción ideal para instituciones educativas, centros de I+D y startups.
Especificaciones
- Tamaño de oblea aplicable: 2”～6”
- Recorrido XY: 200mm
- Precisión del eje XY: 40nm motorizado / 1µm manual (dependiendo del modelo)
- Recorrido del eje Z: Ninguno o mecanismo de ajuste simple
- Precisión de alineación: 1.0~2.0µm (manual)
- Resolución de exposición: 0.8µm～1.0µm
- Método de alineación: Identificación visual humana
- Modo de exposición: Sin contacto / Con contacto (dependiendo del modelo)
- Sistema de control: IPC (algunos modelos)
Configuración
- Diseño ligero de escritorio
- Módulo básico de control de exposición
- Interfaz IPC (para algunos modelos)
Opciones
- Montaje de fotomáscaras con ventosas de vacío simples
- Módulos ópticos personalizados
- Sistema básico de alineación asistida por imagen
Aplicaciones
- Instituciones de investigación y laboratorios universitarios
- Desarrollo inicial de procesos
- Investigación y desarrollo en optoelectrónica y MEMS
- Producción piloto en pequeñas cantidades
Descargar Productos Destacados
Alineador de Máscaras ManualEquipo de Proceso de Semiconductores y Optoelectrónicos Personalizado Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY proporciona Alineador de Máscaras Manual de alta calidad y equipos de proceso de semiconductores y optoelectrónica diseñados para aplicaciones avanzadas de semiconductores, optoelectrónica y pruebas.Nuestra línea de productos incluye alineadores de máscara detallados, recubridores por centrifugación y reveladores fabricados en nuestra instalación de Taoyuan, Taiwán, con fuertes capacidades de automatización.
Nos enfocamos en ofrecer calidad estable y personalización precisa a través de nuestra I+D interna y tecnología de miniaturización. Esto asegura que cada sistema cumpla con estrictos requisitos de proceso mientras mantiene durabilidad práctica, bajo costo y alta eficiencia para los usuarios finales.
Para compradores globales, M&R NANO TECHNOLOGY ofrece un soporte de fabricación confiable que simplifica el proceso de abastecimiento. Proporcionamos comunicación receptiva, integración de automatización eficiente y mantenimiento postventa consistente para ayudar a los clientes a llevar con éxito su equipo de proceso de semiconductores & optoelectrónica a la producción.