Penyelaras Masker Manual | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik
Manual mask aligner dari M&R cocok untuk wafer 2” hingga 6”, dengan perjalanan XY hingga 200mm. Beberapa model dilengkapi dengan penggerak listrik, dan resolusi penyetelan halus minimum dapat mencapai 40 nm. Model standar menawarkan presisi tingkat 1µm manual, menyeimbangkan fleksibilitas dan efektivitas biaya. Penyelarasan dicapai melalui identifikasi visual manusia, dengan akurasi penyelarasan sekitar 1,0~2,0µm, cocok untuk aplikasi R&D dan eksperimen. Beberapa model menawarkan paparan tanpa kontak, menghindari kerusakan permukaan wafer dan meningkatkan pelestarian sampel. Desain sistemnya sederhana, pemeliharaannya mudah, dan dapat dilengkapi dengan modul kontrol IPC untuk menyediakan manajemen data dasar dan antarmuka operasi.
Model ini banyak digunakan di universitas, lembaga penelitian, dan pengujian proses tahap awal di optoelektronik, MEMS, dan bidang lainnya, membantu pengguna menyelesaikan pengembangan dan verifikasi proses paparan dengan cara yang paling ekonomis.Pilih M&R NANO TECHNOLOGY untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualitas tinggi dan manufaktur kustom yang dapat diandalkan.
Penyelaras Masker Manual
Manual mask aligner dari M&R cocok untuk wafer 2” hingga 6”, dengan perjalanan XY hingga 200mm. Beberapa model dilengkapi dengan penggerak listrik, dan resolusi penyetelan halus minimum dapat mencapai 40 nm. Model standar menawarkan presisi tingkat 1µm manual, menyeimbangkan fleksibilitas dan efektivitas biaya. Penyelarasan dicapai melalui identifikasi visual manusia, dengan akurasi penyelarasan sekitar 1,0~2,0µm, cocok untuk aplikasi R&D dan eksperimen. Beberapa model menawarkan paparan tanpa kontak, menghindari kerusakan permukaan wafer dan meningkatkan pelestarian sampel. Desain sistemnya sederhana, pemeliharaannya mudah, dan dapat dilengkapi dengan modul kontrol IPC untuk menyediakan manajemen data dasar dan antarmuka operasi.
Model ini banyak digunakan di universitas, lembaga penelitian, dan pengujian proses tahap awal di optoelektronik, MEMS, dan bidang lainnya, membantu pengguna menyelesaikan pengembangan dan verifikasi proses paparan dengan cara yang paling ekonomis.
Keuntungan dari M&R's manual mask aligner
Manual mask aligner dari M&R adalah perangkat eksposur berkinerja tinggi yang dirancang untuk R&D tahap awal, penggunaan laboratorium, dan prototyping skala kecil. Fitur terbesarnya adalah desain desktop yang kompak dan tingkat pemula, menyediakan solusi litografi yang paling fleksibel dan ekonomis. Ukuran kecil perangkat dan kemudahan instalasi menghemat ruang eksperimen dan secara signifikan mengurangi biaya pembelian, menjadikannya sangat cocok untuk tim dengan anggaran terbatas yang memerlukan beberapa workstation terdistribusi.
Operasi manual adalah keuntungan utama dari perangkat ini. Metode penyelarasan bersifat intuitif dan mudah dipelajari, memungkinkan siswa, peneliti, dan insinyur untuk segera memulai dan langsung melakukan validasi proses. Karena tidak ada proses otomatis yang kompleks, pengguna dapat dengan bebas menyesuaikan berbagai parameter, memfasilitasi eksperimen, koreksi kesalahan, dan eksplorasi proses.
Untuk perlindungan sampel, beberapa model menggunakan desain tanpa kontak, mencegah kerusakan wafer. Ini sangat bermanfaat untuk wafer tipis, struktur MEMS, atau wafer yang melengkung, secara signifikan meningkatkan tingkat keberhasilan dan keandalan eksperimen.
Perlu dicatat bahwa penyelarasan masker manual M&R menawarkan fleksibilitas peningkatan yang tinggi. Pengguna dapat memilih untuk melengkapi platform bermotor untuk meningkatkan akurasi sumbu XY hingga 40 nm, meningkatkan dari verifikasi pemula manual ke tingkat lanjut tanpa mengganti seluruh sistem, menawarkan skalabilitas yang sangat tinggi.
Manual mask aligner dari M&R memberikan pelanggan titik awal yang fleksibel dan efisien untuk proses litografi karena biayanya yang rendah, kemudahan operasi, stabilitas tinggi, dan skalabilitas, menjadikannya pilihan ideal untuk institusi pendidikan, pusat R&D, dan startup.
Spesifikasi
- Ukuran wafer yang berlaku: 2”～6”
- Pergerakan XY: 200mm
- Akurasi sumbu XY: 40nm motorisasi / 1µm manual (tergantung model)
- Pergerakan sumbu Z: Tidak ada atau mekanisme penyesuaian sederhana
- Akurasi penyelarasan: 1.0~2.0µm (manual)
- Resolusi eksposur: 0.8µm～1.0µm
- Metode penyelarasan: Identifikasi visual manusia
- Mode eksposur: Non-kontak / Kontak (tergantung model)
- Sistem kontrol: IPC (beberapa model)
Konfigurasi
- Desain ringan desktop
- Modul kontrol eksposur dasar
- Antarmuka IPC (untuk beberapa model)
Opsi
- Pemasangan fotomask dengan cangkir hisap vakum sederhana
- Modul optik yang disesuaikan
- Sistem penyelarasan dasar yang dibantu gambar
Aplikasi
- Institusi penelitian dan laboratorium universitas
- Pengembangan proses awal
- R&D Optoelektronik dan MEMS
- Produksi pilot dalam jumlah kecil
Unduh Produk Terlaris
Penyelaras Masker ManualPeralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik Kustom Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY menyediakan Penyelaras Masker Manual berkualitas tinggi dan peralatan proses semikonduktor & optoelektronik yang dirancang untuk aplikasi semikonduktor, optoelektronik, dan pengujian yang canggih.Rangkaian produk kami mencakup Mask Aligners, Spin Coaters, dan Developers yang diproduksi di fasilitas kami di Taoyuan, Taiwan dengan kemampuan otomatisasi yang kuat.
Kami fokus pada penyampaian kualitas yang stabil dan kustomisasi yang tepat melalui R&D internal dan teknologi miniaturisasi kami. Ini memastikan bahwa setiap sistem memenuhi persyaratan proses yang ketat sambil mempertahankan daya tahan praktis, biaya rendah, dan efisiensi tinggi untuk pengguna akhir.
Untuk pembeli global, M&R NANO TECHNOLOGY menawarkan dukungan manufaktur yang dapat diandalkan yang menyederhanakan proses pengadaan. Kami menyediakan komunikasi yang responsif, integrasi otomatisasi yang efisien, dan pemeliharaan purna jual yang konsisten untuk membantu pelanggan berhasil membawa peralatan proses semikonduktor & optoelektronik mereka ke dalam produksi.