Sistem Pembersih Masker MCS (Tipe Kering) | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik
Sistem Penghilangan Debu Air-Knife MCS adalah solusi pembersihan kering kelas industri yang dikembangkan oleh M&R untuk aplikasi yang memerlukan kebersihan ultra-tinggi dan kontrol kontaminasi. Dengan memanfaatkan aliran udara berkecepatan tinggi dari pisau udara, sistem ini secara efektif menghilangkan partikel skala nano dan mikro dalam proses tanpa kontak sepenuhnya, menjadikannya sangat cocok untuk fotomask semikonduktor, wafer, dan komponen presisi bernilai tinggi lainnya. Dirancang untuk integrasi yang mulus ke dalam lingkungan manufaktur yang canggih, MCS membantu mengurangi risiko kontaminasi, meningkatkan hasil proses, dan meningkatkan stabilitas produksi secara keseluruhan tanpa menggunakan air, bahan kimia, atau pelarut.Pilih M&R NANO TECHNOLOGY untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualitas tinggi dan manufaktur kustom yang dapat diandalkan.
Sistem Pembersih Masker MCS (Tipe Kering)
Sistem Penghilangan Debu Air-Knife MCS adalah solusi pembersihan kering kelas industri yang dikembangkan oleh M&R untuk aplikasi yang memerlukan kebersihan ultra-tinggi dan kontrol kontaminasi. Dengan memanfaatkan aliran udara berkecepatan tinggi dari pisau udara, sistem ini secara efektif menghilangkan partikel skala nano dan mikro dalam proses tanpa kontak sepenuhnya, menjadikannya sangat cocok untuk fotomask semikonduktor, wafer, dan komponen presisi bernilai tinggi lainnya. Dirancang untuk integrasi yang mulus ke dalam lingkungan manufaktur yang canggih, MCS membantu mengurangi risiko kontaminasi, meningkatkan hasil proses, dan meningkatkan stabilitas produksi secara keseluruhan tanpa menggunakan air, bahan kimia, atau pelarut.
Fitur Peralatan
Sistem MCS menggunakan proses pembersihan fisik tiga tahap yang unik, termasuk netralisasi muatan elektrostatik, getaran ultrasonik yang ditransmisikan melalui udara, dan tiupan udara berbentuk M bertekanan rendah yang presisi. Desain ini memungkinkan penghilangan partikel dalam rentang 0,5 hingga 5 mikrometer secara efisien, mencapai tingkat pengurangan partikel hingga 99% sambil memastikan bahwa pelikel sensitif dan permukaan masker tetap bebas dari stres mekanis atau deformasi.
Sistem mendukung penanganan otomatis dengan pembalikan robotik, identifikasi barcode dan RFID, serta komunikasi SEMI E121, memungkinkan integrasi yang mulus dengan otomatisasi fab dan sistem logistik masker. Fitur-fitur ini menjadikan MCS alat yang penting untuk lingkungan litografi canggih, termasuk proses EUV, ArF, dan KrF, di mana kebersihan secara langsung mempengaruhi hasil, umur masker, dan keandalan manufaktur.
Spesifikasi
- Struktur unit utama: Rangka baja/aluminium paduan berkekuatan tinggi
- Pisau udara: Paduan logam tahan aus atau paduan aluminium berkualitas tinggi
- Saluran aliran udara dan nosel: Logam yang diproses dengan presisi tinggi
- Pengendali dan panel: Komponen elektronik dan panel kelas industri
- Mekanisme transmisi: Servo atau penggerak pneumatik yang sangat andal
Konfigurasi
- Mesin utama: Termasuk modul pisau udara dan sirkuit udara penggerak
- Sistem kontrol: PLC/panel sentuh, pengaturan parameter otomatis
- Antarmuka sumber udara: Pasokan udara terkompresi dan pipa
- Peralatan keselamatan/perlindungan: Tombol darurat, pelindung keselamatan, sensor
- Rangka/basis pendukung: Dapat diintegrasikan dengan jalur produksi atau peralatan transfer
- Antarmuka pemantauan data: Menampilkan status operasi dan statistik penghilangan debu
Opsi
- Platform pemposisian presisi tinggi (terintegrasi secara dinamis dengan jalur produksi)
- Peralatan pengujian ukuran partikel
- Berbagai nosel pisau udara/modul silinder
- Antarmuka peng喂an/pembuangan otomatis untuk jalur produksi
- Sistem pemantauan kebersihan
- Pengumpulan debu vakum terintegrasi atau pipa emisi
Aplikasi
- Pembersihan dan penghilangan debu fotomask semikonduktor (fotomask grade EUV, ArF, KrF)
- Pembersihan permukaan wafer presisi (MSP, paparan wafer)
- Proses manufaktur kebersihan tinggi: seperti proses optoelektronik, manufaktur lensa presisi
- Pengolahan komponen optik: seperti tampilan panel datar, kaca optik
- Lingkungan manufaktur presisi: setiap lingkungan yang memerlukan penghilangan debu tanpa kontak
Unduh Produk Terlaris
Sistem Pembersih Masker MCS (Tipe Kering)Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik Kustom Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY menyediakan Sistem Pembersih Masker MCS (Tipe Kering) berkualitas tinggi dan peralatan proses semikonduktor & optoelektronik yang dirancang untuk aplikasi semikonduktor, optoelektronik, dan pengujian yang canggih.Rangkaian produk kami mencakup Mask Aligners, Spin Coaters, dan Developers yang diproduksi di fasilitas kami di Taoyuan, Taiwan dengan kemampuan otomatisasi yang kuat.
Kami fokus pada penyampaian kualitas yang stabil dan kustomisasi yang tepat melalui R&D internal dan teknologi miniaturisasi kami. Ini memastikan bahwa setiap sistem memenuhi persyaratan proses yang ketat sambil mempertahankan daya tahan praktis, biaya rendah, dan efisiensi tinggi untuk pengguna akhir.
Untuk pembeli global, M&R NANO TECHNOLOGY menawarkan dukungan manufaktur yang dapat diandalkan yang menyederhanakan proses pengadaan. Kami menyediakan komunikasi yang responsif, integrasi otomatisasi yang efisien, dan pemeliharaan purna jual yang konsisten untuk membantu pelanggan berhasil membawa peralatan proses semikonduktor & optoelektronik mereka ke dalam produksi.