ระบบ MCS ใช้กระบวนการทำความสะอาดทางกายภาพที่เป็นเอกลักษณ์ในสามขั้นตอน ซึ่งรวมถึงการทำให้ประจุไฟฟ้าสถิตเป็นกลาง การสั่นสะเทือนด้วยคลื่นเสียงอัลตราโซนิกที่ส่งผ่านอากาศ และการเป่าลมด้วยมีดอากาศรูป M ที่มีความดันต่ำอย่างแม่นยำ การออกแบบนี้ช่วยให้สามารถกำจัดอนุภาคในช่วงขนาด 0.5 ถึง 5 ไมครอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยสามารถลดจำนวนอนุภาคได้ถึง 99% ในขณะที่ยังคงทำให้ฟิล์มที่ไวต่อการสัมผัสและพื้นผิวหน้ากากปราศจากความเครียดทางกลหรือการบิดเบือน.
 
ระบบสนับสนุนการจัดการอัตโนมัติด้วยการพลิกด้วยหุ่นยนต์ การระบุด้วยบาร์โค้ดและ RFID และการสื่อสาร SEMI E121 ซึ่งช่วยให้การรวมเข้ากับระบบอัตโนมัติของโรงงานและระบบโลจิสติกส์ของหน้ากากเป็นไปอย่างราบรื่น ฟีเจอร์เหล่านี้ทำให้ MCS เป็นเครื่องมือที่จำเป็นสำหรับสภาพแวดล้อมการถ่ายภาพลิเทอรอกีขั้นสูง รวมถึงกระบวนการ EUV, ArF และ KrF ซึ่งความสะอาดมีผลโดยตรงต่อผลผลิต อายุการใช้งานของหน้ากาก และความน่าเชื่อถือในการผลิต.

ข้อมูลจำเพาะ

• โครงสร้างหน่วยหลัก: โครงเหล็ก/อลูมิเนียมอัลลอยด์ความแข็งแรงสูง
• มีดลม: โลหะผสมที่ทนต่อการสึกหรอหรือโลหะผสมอลูมิเนียมเกรดสูง
• ท่อและหัวฉีดลม: โลหะที่ผ่านการกลึงอย่างแม่นยำ
• ตัวควบคุมและแผง: ส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์เกรดอุตสาหกรรมและแผง
• กลไกการส่ง: เซอร์โวหรือขับเคลื่อนด้วยนิวเมติกที่มีความน่าเชื่อถือสูง

การกำหนดค่า

• เครื่องหลัก: รวมโมดูลมีดลมและวงจรอากาศขับเคลื่อน
• ระบบควบคุม: PLC/แผงสัมผัส, การตั้งค่าพารามิเตอร์อัตโนมัติ
• อินเตอร์เฟซแหล่งอากาศ: การจ่ายอากาศอัดและท่อ
• อุปกรณ์ความปลอดภัย/การป้องกัน: ปุ่มหยุดฉุกเฉิน, โล่ความปลอดภัย, เซ็นเซอร์
• กรอบสนับสนุน/ฐาน: สามารถรวมเข้ากับสายการผลิตหรืออุปกรณ์ขนส่ง
• อินเตอร์เฟซการตรวจสอบข้อมูล: แสดงสถานะการทำงานและสถิติการกำจัดฝุ่น

ตัวเลือก

• แพลตฟอร์มการจัดตำแหน่งที่มีความแม่นยำสูง (รวมเข้ากับสายการผลิตแบบไดนามิก)
• อุปกรณ์ทดสอบขนาดอนุภาค
• หัวฉีดลมแบบต่าง ๆ / โมดูลกระบอก
• อินเตอร์เฟซการให้อาหาร/การขนถ่ายอัตโนมัติสำหรับสายการผลิต
• ระบบการตรวจสอบความสะอาด
• การเก็บฝุ่นแบบดูดสูญญากาศหรือท่อระบายอากาศแบบรวม

แอปพลิเคชัน

• การทำความสะอาดฟิล์มโฟโตมาสก์เซมิคอนดักเตอร์และการกำจัดฝุ่น (ฟิล์มโฟโตมาสก์เกรด EUV, ArF, KrF)
• การทำความสะอาดพื้นผิวเวเฟอร์อย่างแม่นยำ (MSP, การเปิดเผยเวเฟอร์)
• กระบวนการผลิตที่มีความสะอาดสูง: เช่น กระบวนการออปโตอิเล็กทรอนิกส์, การผลิตเลนส์ที่มีความแม่นยำ
• การประมวลผลส่วนประกอบออปติก: เช่น จอแสดงผลแบน, แก้วออปติก
• สภาพแวดล้อมการผลิตที่มีความแม่นยำ: สภาพแวดล้อมใด ๆ ที่ต้องการการกำจัดฝุ่นแบบไม่สัมผัส