M&R เชี่ยวชาญในการออกแบบ ปรับเปลี่ยน และรวมโมดูลอุปกรณ์หลักในส่วนของฟอตโทลิธอกราฟี ซึ่งรวมถึง:
ระบบการประมวลผลฟิล์มโฟโต้เรซิส:
เครื่องเคลือบและพัฒนาแบบกำหนดเองสำหรับฟิล์มโฟโต้เรซิส UV, วัสดุหลายลวดลาย และซับสเตรตต่างๆ เพื่อปรับปรุงความสม่ำเสมอของความหนาฟิล์มและลดข้อบกพร่อง.
ระบบฟอตโทลิธอกราฟีที่แม่นยำ:
มุ่งเน้นการปรับปรุงความแม่นยำของการซ้อนทับและผลผลิตของเครื่องถ่ายภาพที่มีอยู่ บริการรวมถึงการอัปเกรดระบบการตรวจจับเครื่องหมายการจัดตำแหน่งเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการซ้อนทับบนผลิตภัณฑ์; การปรับเทียบระบบขนส่งเวเฟอร์เพื่อปรับปรุงเวลาใช้งานต่อหน่วย (UPH); และการนำการตรวจสอบปริมาณในเวลาจริงและการรวม APC มาใช้เพื่อให้ได้การปรับปรุงกระบวนการที่ขับเคลื่อนด้วยข้อมูลและการควบคุมที่เสถียร.
ระบบควบคุมอุณหภูมิ:
ผ่านการวัดและการทำแผนที่ด้วยเทอร์โมคัปเปิลแบบหลายจุดในสถานที่ การปรับพลังงานในโซนฮีตเตอร์จะถูกปรับเทียบใหม่ ซึ่งช่วยปรับปรุงความสม่ำเสมอของอุณหภูมิที่ระดับเวเฟอร์อย่างมีนัยสำคัญ ทำให้มั่นใจในความสม่ำเสมอของปฏิกิริยาของฟิล์มโฟโตเรซิสที่มีการขยายเคมี และปรับปรุงความสม่ำเสมอของมิติที่สำคัญโดยตรง.

ข้อได้เปรียบทางเทคนิค:

• มุ่งเน้นความแม่นยำ รองรับการควบคุม CD ระดับซับไมครอนและการซ้อนทับ.
• แก้ปัญหาในแอปพลิเคชันเฉพาะทาง เช่น 3D IC, การบรรจุระดับเวเฟอร์, โฟตอนิกส์ซิลิคอน และ MEMS.
• การออกแบบโมดูลาร์และการรวมเข้ากับ MES/EAP อย่างไร้รอยต่อเพื่อให้การผลิตจำนวนมากมีเสถียรภาพและการตรวจสอบผลผลิต.

ขับเคลื่อนโดยกฎของมูร์และเกินกว่านั้น เรามุ่งมั่นที่จะเป็นพันธมิตรด้านเทคโนโลยีการผลิตของคุณ โดยให้บริการอุปกรณ์ฟอโต้ลิธอกราฟีที่ปรับแต่งได้ซึ่งเกินกว่าข้อกำหนดมาตรฐาน ช่วยให้คุณเอาชนะอุปสรรคในกระบวนการและเพิ่มความสามารถในการแข่งขันของคุณ.