客製化服務
隨著半導體進入先進製程與異質整合時代，黃光微影面臨解析度提升、疊對精度控制與翹曲晶圓處理等挑戰。當標準設備無法滿足嚴苛的臨界尺寸均勻度與良率需求時，科毅提供深度客製化設備解決方案。
科毅專注於黃光區段關鍵設備模組的 設計、改造與整合，涵蓋：
光阻處理系統：
針對UV光阻、多重圖案化材料與不同基板，客製化塗佈與顯影機，提升膜厚均勻性並降低缺陷。
精密微影系統：
專注於提升現有曝光機之疊對精度與產出率。服務包括升級對位標記偵測系統以優化 On-Product Overlay；校正晶圓傳輸系統以提升UPH；並導入即時劑量監控與 APC 整合功能，實現以數據驅動的製程優化與穩定控制。
溫度控制系統：
透過多點原位熱耦量測與映射，重新校正加熱器分區功率調變，顯著提升晶圓級溫度均勻性，確保化學放大光阻反應的一致性，直接改善關鍵尺寸均勻度
技術優勢：
- 精度導向，支援亞微米級CD與疊對控制
- 解決3D IC、晶圓級封裝、矽光子、MEMS等特殊應用挑戰
- 模組化設計與MES/EAP無縫整合，確保量產穩定與良率監控
在摩爾定律與超越摩爾定律的發展下，我們致力於成為您的製程技術夥伴，提供超越標準規格的黃光製程設備客製化服務，協助您突破製程瓶頸、強化競爭力。