設備耗材

支援曝光與顯影設備穩定運轉的關鍵耗材與零組件服務 / 整合光刻、塗佈、顯影與光罩製作,打造高度客製化與自動化製程設備

除了設備銷售和服務,我們還提供曝光機,顯影機等黃光微影設備耗材服務。

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支援曝光與顯影設備穩定運轉的關鍵耗材與零組件服務

除了設備銷售與維修服務外,我們亦提供曝光機耗材與零組件供應服務,包括馬達、驅動器、電極線、聯軸器、壓力傳感器、光電開關等關鍵零件。此服務的最大效益在於協助客戶快速維修與維持設備穩定運轉,避免因零件故障造成產線中斷與製程延誤。


我們提供的零件皆通過嚴格測試與品質驗證,確保與各型曝光機相容,並可根據客戶需求提供原廠或等效替代方案,兼顧效能與成本效益。服務特點在於備品齊全、供應快速,並由專業技術團隊提供安裝指導與系統校正,確保更換後性能達標。相較自行尋找零件供應商,我們的一站式耗材服務能大幅縮短維修時程、降低採購風險,並維持整體製程的穩定性。對研發與生產單位而言,這項服務不僅提升維護效率,更強化了生產連續性與設備使用壽命,是穩定運作的關鍵支援。

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曝光機驅動器 - 曝光機高性能驅動器,搭配馬達精準運作
曝光機驅動器

曝光機的驅動器負責接收控制系統指令並精準驅動馬達,是平台運動控制的關鍵元件。其高解析度電流控制與高速閉迴路運算,可確保平台在加減速、微位移與高速掃描時維持平滑穩定的動態表現,提升對位與曝光精度。 科毅科技的驅動器支援多軸同步運動,可同時協調...

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曝光機馬達 - 曝光機專用高精度馬達,影像對位與平台傳動的核心動力
曝光機馬達

曝光機專用高精度馬達是影像對位與平台傳動的核心動力。馬達是曝光機中的整體傳動系統的核心元件,負責驅動晶圓平台、對位模組與精密移動機構,其性能直接影響曝光品質、線寬均勻度與整體製程穩定性。因此,馬達必須具備高精度定位、超低震動、高重現性與優異動態響應能力。 科毅科技所使用的高精度馬達採用高解析度回授編碼器(Encoder),能達到奈米級定位解析度,確保在曝光過程中平台移動平滑、精準,不會因機械位移誤差而影響圖樣成像品質。其內部採用低齒槽轉矩設計,可有效降低震動與速度波動,使平台移動更一致,對高階微影製程極為重要。

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光罩 - 科毅科技提供高解析度、低缺陷的光罩製作服務
光罩

科毅科技提供高解析度、低缺陷的光罩製作服務,支援 MEMS、光電、感測器與半導體等微影製程需求。採用高平坦度基板與高品質鉻膜,確保曝光圖樣能精準轉移至光阻層,協助客戶提升曝光成功率、縮短研發與試產週期。無論應用於研發驗證、原型製作或小量試產,皆能提供穩定可靠的製程支援。 在材料與製作品質上,科毅科技可依據客戶版圖與製程需求,選用石英或玻璃等高平坦度基板,搭配具備良好光學穩定性的鉻膜(Cr)或專用光學材料,支援從微米級到奈米級線寬的圖樣轉移。同時提供完整的前後段配套服務,包含版圖檢查、資料轉換、尺寸驗證與瑕疵檢測,讓客戶能安心專注於製程開發與量產導入。快速交期與穩定品質,使科毅成為眾多學研單位與產業客戶長期合作的光罩服務夥伴。

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光阻 - 我們代理KemLab 廣泛的光阻系列產品
光阻

科毅科技結合對黃光微影設備與製程條件的理解,提供涵蓋薄膜至厚膜應用的光阻解決方案,支援IC製造、先進封裝、微機電系統(MEMS)與光學元件等多元製程需求。透過不同光阻配方設計,可對應高解析度圖形、高深寬比結構、金屬舉離與永久性微結構製作,協助客戶在研發與量產階段建立穩定且可重現的光刻製程。

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壓力傳感器 - 標準壓力傳感器模組
壓力傳感器

科毅公司提供的壓力傳感器為專門應用於曝光機的關鍵零組件,主要用於即時監測曝光機真空腔體與氣壓環境,確保曝光腔室在穩定壓力條件下運作。透過高精度、連續性的壓力監測,可有效避免因腔體壓力波動所導致的曝光不良、線寬偏移或製程穩定性下降,是維持微影製程品質與良率的重要基礎元件。

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科毅 設備耗材簡介

科毅科技股份有限公司是台灣一家擁有超過25年經驗的專業設備耗材生產製造服務商。 我們成立於西元2000年, 在服務半導體、光電子和先進製造市場領域上, 科毅提供專業高品質的設備耗材製造服務, 科毅 總是可以達成客戶各種品質的要求。