半導體設備

半導體設備是晶片製程中各步驟的關鍵工具。 / 整合光刻、塗佈、顯影與光罩製作,打造高度客製化與自動化製程設備

半導體設備是晶片製程中各步驟的關鍵工具。

半導體設備

科毅科技的半導體設備以高度整合的設計與穩定的操作介面,協助工程師在研發與量產階段都能維持一致的製程品質。其產品線涵蓋旋塗、曝光、顯影、蝕刻等關鍵製程設備,能依據不同材料與工藝條件靈活調整,滿足從學術研究到產業量產的多樣需求。


對研發人員而言,這些設備提供精確的參數控制與可重現的結果,縮短實驗開發週期;對製程工程師與品保團隊,穩定的機台性能與完整的紀錄功能有助於製程追溯與品質管理。科毅科技亦具備客製化設計與完善售後服務能力,協助組織建立標準化流程、提升產能與可靠性。對於致力於創新與效率的團隊而言,科毅的半導體設備不僅是工具,更是製程進步與技術落實的核心夥伴。

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蝕刻設備 - 蝕刻機為半導體蝕刻清洗製程用。
蝕刻設備

科毅蝕刻設備使用抗腐蝕的材質製造(PP/PVDF/PFA….等),配有多個槽體(1....

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熱板 - 熱板是一種利用電加熱元件將熱能傳導至表面的設備。
熱板

熱板是一種利用電加熱元件將熱能傳導至表面的設備,主要用於加熱、乾燥、熱壓或熔接等工藝。熱板具備溫度控制與均勻加熱功能,廣泛應用於實驗室、工業製造、塑膠加工。 在製程加熱應用中,許多買主常面臨溫度不均、升溫慢、控制不精準、設備穩定度不足等痛點,這些問題不僅影響產品良率,更可能造成製程重工與產線停機風險。尤其在黃光、半導體、精密加工與實驗室應用中,熱板已不只是「能加熱就好」,而是必須兼顧精準、穩定與長時間可靠運作的關鍵設備。

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晶圓清洗機 - 4~12吋全自動、半自動、手動清洗機。
晶圓清洗機

晶圓清洗機適用於4吋~12吋晶圓以及其他方形或破片的吸附載台。使用清洗液,並配有液位可控的溶劑容器,使用溶劑置換抽屜。科毅晶圓清洗機內建真空產生器與自動排水裝置,使用二流體噴嘴加強洗淨效果,可選用純氮氣式的清洗吹乾流程,程式控制器可加中/英文顯示板,依使用者需求提供非標準工作盤,可提供各式清洗應用模式。 晶圓清洗機能以高效率與高穩定性解決污染控制問題,是任何希望提升製程品質、良率與穩定度的單位不可或缺的關鍵設備。

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科毅 半導體設備簡介

科毅科技股份有限公司是台灣一家擁有超過25年經驗的專業半導體設備生產製造服務商。 我們成立於西元2000年, 在服務半導體、光電子和先進製造市場領域上, 科毅提供專業高品質的半導體設備製造服務, 科毅 總是可以達成客戶各種品質的要求。