工程研發常見問題
聚焦曝光設備的工程設計與系統整合,涵蓋光源管理、照度量測、設備結構與控制架構等技術議題。透過工程與研發角度解析設備關鍵模組與設計考量,協助使用者在製程開發與設備優化階段,做出更合適的技術選擇。
光源、照度與量測
一台曝光機光源功率為 200 W,照射面積是 100 cm²,請問照度是多少?
計算方式是功率除以面積,200 ÷ 100 = 2 W/cm²。

曝光機曝光時如何判斷曝光能量到達?
- 有兩種模式:
- 利用預先輸入的照度來計算需要多少時間能到達所需要能量
- 利用感測計實時檢測累計能量
照度衰退的檢查項目有哪些?
- 紫外線燈泡(汞燈)衰減,紫外線燈泡(汞燈)異常衰減檢查內容:
- 檢查紫外線燈泡(汞燈)功率、電壓和電流,是否正確(標準值可參考汞燈燈盒)。
- 紫外線燈泡(汞燈)的位置是否正確,X、Y、Z軸需調至最佳位置。
- 反光碗是否有氧化。
- Fly eye是否有霧化。
- 更換紫外線燈泡(汞燈),確認是否有瑕疵。
- 確認照度計是否有問題。
汞燈可以用多久?
汞燈的使用年限,主要是點擊次數和使用時數有關係,
正常使用狀態:350W、500W、1000W、2000W & 5000W各不同
提醒您,曝光系統有數種光學元件,大部分元件皆有塗佈獨特的光學鍍膜,此光學鍍膜會因為時間、溫度、濕度及酸鹼PH值產生損耗,建議將固定檢查點檢其功能性及外觀有無異常,並加以記錄,有任何問題請直接請教專業的M&R諮詢。
2KW汞燈壽命為何?
2KW汞燈壽命是1000小時。
汞燈關閉後再次點擊需等幾分鐘?
汞燈關閉後再次點擊需等30分鐘
設備結構與關鍵模組
Flag的功用是甚麼?
Flag為一可伸縮或旋轉部件,前方固定陶瓷球,當基板與光罩整平時,陶瓷球充當兩者之間接觸介質,來避免光阻汙染光罩。
什麼是 Mask Holder?
Mask Holder是固定光罩的平台,光罩放置於該平台定位後利用真空吸附光罩。
如何更換光罩?
設備分為上置式、下置式固定光罩,上置式為將光罩直接真空吸附於光罩固定板(Mask Holder)上方,所以交換光罩可以直接解除真空重新放置它片光罩後真空吸附。下置式需先將Mask Holder抽出後翻面,解真空後更換光罩吸附後Mask Holder放回。另本公司有下置式光罩更換治具,可輔助下置光罩固定簡易的更換光罩,不需取出Mask Holder即可輕鬆更換光罩。
曝光設備(Exposure)需考慮那些作業參數?
晶片平整性、光罩與晶片對位精度
控制系統與自動化
曝光機的控制系統多使用哪種架構?
通常為 工控機 (IPC) + PLC + 運動控制卡 組合;IPC 負責演算法與人機介面,PLC 負責安全邏輯,運動控制卡處理高速 stage 動作。
自動化系統設備是使用什麼架構?
工控電腦與設備和主控端溝通用的通訊協定(SECS/GEM)
自動化系統使用哪些通訊協定(SECS/GEM)?
工控電腦與設備和主控端溝通用的通訊協定(SECS/GEM)