產品&服務
產品與服務類別
科毅科技長期深耕黃光製程設備領域，專注服務半導體、面板顯示器與相關精密製造產業，提供從設備、耗材到技術服務的完整解決方案。在設備方面，科毅科技提供曝光機、對位與周邊黃光製程設備，協助客戶在高精度、高穩定度的製程需求下維持產線效率。
同時，公司供應多元化黃光製程耗材，包含光罩相關配件、晶圓與基板載具、框架與儲存產品，確保製程中材料相容性與使用可靠度。
在服務層面，科毅科技具備豐富的實務經驗，提供設備改機升級、維修保養、電源與燈源系統整合、技術諮詢及客製化支援，協助客戶延長設備使用壽命、降低停機風險並優化整體製程表現。
顯影機
半導體顯影機是光刻製程中的關鍵設備之一，主要用於將曝光後的光阻圖案顯影出來，形成精細的電路結構。其工作原理是利用化學顯影液，選擇性地溶解經曝光改變性質的光阻材料，從而將電路圖形轉移至晶圓表面。顯影機對於製程精度與穩定性要求極高，需具備均勻的液體分佈控制、精準的時間與溫度管理，以及潔淨環境下的操作能力。隨著先進製程節點的發展，顯影機在提升解析度、降低缺陷率及提高良率方面扮演越來越重要的角色，是半導體製造中不可或缺的重要設備之一。
塗佈機
旋轉塗佈機是半導體製程中重要的前段設備之一，主要用於在晶圓表面均勻塗佈光阻或其他薄膜材料。其運作原理是將液態光阻滴置於晶圓中心，透過高速旋轉產生離心力，使材料均勻展開並形成精確厚度的薄膜。塗佈品質直接影響後續曝光與顯影製程的解析度與穩定性，因此對轉速控制、加速度、塗佈時間及環境潔淨度均有嚴格要求。現代旋轉塗佈機通常配備自動化控制系統與精密流量管理，以確保膜厚一致性與製程重現性。隨著先進製程發展，對薄膜均勻性與缺陷控制的要求日益提高，使旋轉塗佈機成為確保晶片品質與良率的重要設備之一。
曝光機
曝光機是半導體光刻製程中的核心設備之一，主要用於將電路圖形從光罩精準轉移至塗佈光阻的晶圓表面。其運作原理是利用特定波長的光源，透過投影光學系統將光罩上的圖案縮小並曝光於晶圓上，改變光阻材料的化學性質，以便後續顯影形成電路結構。曝光機對於解析度、對位精度及製程穩定性要求極高，需具備奈米級的對準能力與高度穩定的光源控制。隨著先進製程技術發展，從深紫外光（DUV）到極紫外光（EUV），曝光機技術不斷演進，成為影響晶片性能與製造良率的關鍵因素，是半導體製造中不可或缺的核心設備。
光罩除塵機
MCS 風刀式除塵機是科毅科技專為高潔淨要求與精密製程環境所研發的工業級乾式除塵設備，廣泛應用於半導體製造及光學元件處理等關鍵領域。該設備採用非接觸式清潔技術，透過高壓高速風刀產生穩定且均勻的氣流，有效去除晶圓、光罩及Pellicle表面的奈米級微粒與污染物，同時避免傳統接觸式清潔可能造成的刮傷或損傷。由於全程不使用水、化學藥液或溶劑，能大幅降低殘留風險與二次污染，特別適用於高價值與高精密度元件。MCS...
半導體設備
科毅科技的半導體設備以高度整合的設計與穩定的操作介面，協助工程師在研發與量產階段都能維持一致的製程品質。其產品線涵蓋旋塗、曝光、顯影、蝕刻等關鍵製程設備，能依據不同材料與工藝條件靈活調整，滿足從學術研究到產業量產的多樣需求。
二手半導體製程設備
科毅提供二手半導體製程設備服務為研發機構、學術單位及中小型廠商提供高效且具成本效益的解決方案。其最大效益在於以較低投資即可取得完整製程能力，協助單位快速建置實驗平台或試產線，縮短研發週期並降低初期資本負擔。
設備耗材
除了設備銷售與維修服務外，我們亦提供曝光機耗材與零組件供應服務，包括馬達、驅動器、電極線、聯軸器、壓力傳感器、光電開關等關鍵零件。此服務的最大效益在於協助客戶快速維修與維持設備穩定運轉，避免因零件故障造成產線中斷與製程延誤。
其它服務
除了黃光製程設備銷售外，我們亦提供設備整合、移機與同機型再配置服務，協助客戶在既有資源中達到最優化的生產與研發效率。此服務的最大效益在於縮短新廠建置或製程導入的時間，降低重新採購與調校成本，確保設備於新環境中能迅速恢復穩定運作。