产品&服务
科毅科技长期深耕黄光制程设备领域，专注服务半导体、面板显示器与相关精密制造产业，提供从设备、耗材到技术服务的完整解决方案。在设备方面，科毅科技提供曝光机、对位与周边黄光制程设备，协助客户在高精度、高稳定度的制程需求下维持产线效率。
同时，公司供应多元化黄光制程耗材，包含光罩相关配件、晶圆与基板载具、框架与储存产品，确保制程中材料兼容性与使用可靠度。
在服务层面，科毅科技具备丰富的实务经验，提供设备改机升级、维修保养、电源与灯源系统整合、技术咨询及客制化支持，协助客户延长设备使用寿命、降低停机风险并优化整体制程表现。
显影机
半导体显影机是光刻制程中的关键设备之一，主要用于将曝光后的光阻图案显影出来，形成精细的电路结构。其工作原理是利用化学显影液，选择性地溶解经曝光改变性质的光阻材料，从而将电路图形转移至晶圆表面。显影机对于制程精度与稳定性要求极高，需具备均匀的液体分布控制、精准的时间与温度管理，以及洁净环境下的操作能力。随着先进制程节点的发展，显影机在提升分辨率、降低缺陷率及提高良率方面扮演越来越重要的角色，是半导体制造中不可或缺的重要设备之一。
涂布机
旋转涂布机是半导体制程中重要的前段设备之一，主要用于在晶圆表面均匀涂布光阻或其他薄膜材料。其运作原理是将液态光阻滴置于晶圆中心，透过高速旋转产生离心力，使材料均匀展开并形成精确厚度的薄膜。涂布质量直接影响后续曝光与显影制程的分辨率与稳定性，因此对转速控制、加速度、涂布时间及环境洁净度均有严格要求。现代旋转涂布机通常配备自动化控制系统与精密流量管理，以确保膜厚一致性与制程重现性。随着先进制程发展，对薄膜均匀性与缺陷控制的要求日益提高，使旋转涂布机成为确保芯片质量与良率的重要设备之一。
曝光机
曝光机是半导体光刻制程中的核心设备之一，主要用于将电路图形从光罩精准转移至涂布光阻的晶圆表面。其运作原理是利用特定波长的光源，透过投影光学系统将光罩上的图案缩小并曝光于晶圆上，改变光阻材料的化学性质，以便后续显影形成电路结构。曝光机对于分辨率、对位精度及制程稳定性要求极高，需具备奈米级的对准能力与高度稳定的光源控制。随着先进制程技术发展，从深紫外光（DUV）到极紫外光（EUV），曝光机技术不断演进，成为影响芯片性能与制造良率的关键因素，是半导体制造中不可或缺的核心设备。
光罩除尘机
MCS 风刀式除尘机是科毅科技专为高洁净要求与精密制程环境所研发的工业级干式除尘设备，广泛应用于半导体制造及光学组件处理等关键领域。该设备采用非接触式清洁技术，透过高压高速风刀产生稳定且均匀的气流，有效去除晶圆、光罩及Pellicle表面的奈米级微粒与污染物，同时避免传统接触式清洁可能造成的刮伤或损伤。由于全程不使用水、化学药液或溶剂，能大幅降低残留风险与二次污染，特别适用于高价值与高精密度组件。MCS...
半导体设备
科毅科技的半导体设备以高度整合的设计与稳定的操作接口，协助工程师在研发与量产阶段都能维持一致的制程质量。其产品线涵盖旋涂、曝光、显影、蚀刻等关键制程设备，能依据不同材料与工艺条件灵活调整，满足从学术研究到产业量产的多样需求。
二手半导体制程设备
科毅二手半导体制程设备服务为研发机构、学术单位及中小型厂商提供高效且具成本效益的解决方案。其最大效益在于以较低投资即可取得完整制程能力，协助单位快速建置实验平台或试产线，缩短研发周期并降低初期资本负担。
设备耗材
除了设备销售与维修服务外，我们亦提供曝光机耗材与零组件供应服务，包括马达、驱动器、电极线、联轴器、压力传感器、光电开关等关键零件。此服务的最大效益在于协助客户快速维修与维持设备稳定运转，避免因零件故障造成产线中断与制程延误。
其它服务
除了黄光制程设备销售外，我们亦提供设备整合、移机与同机型再配置服务，协助客户在既有资源中达到最优化的生产与研发效率。此服务的最大效益在于缩短新厂建置或制程导入的时间，降低重新采购与调校成本，确保设备于新环境中能迅速恢复稳定运作。