手动旋转涂布机
科毅手动旋转涂布机用于光阻与薄膜材料的涂布试作与制程参数建立，晶圆以真空吸附固定于夹具上，透过马达旋转产生离心力，使光阻均匀展开于基板表面。设备本体采用...
手动曝光机
科毅手动曝光机适用于 2” 至 6” 晶圆，XY 行程达 200mm，部分型号配备电动驱动，最小微调分辨率可达到40...
半自动曝光机
半自动曝光机在研发实验室、小量产线与新产品开发环境中是极具价值的设备。用户面对的主要挑战通常是曝光质量不稳定、操作差异大、对准精度需提升等问题，而半自动曝光机透过程序化控制光源强度、曝光时间与对位动作，有效降低人为误差，使每次曝光结果保持一致，是建立标准化制程的重要工具。 其特点在于半自动对位系统、可程控曝光参数、稳定的光源输出与直观操作接口，同时保留人工调整的弹性，让工程师可针对新材料、新光阻或新结构快速进行条件优化。相较于手动设备，它能大幅提升重现性与对准精度；相较于全自动设备，又具备更高的成本效益与更短的导入周期。选用半自动曝光机的单位多为MEMS开发实验室、光电组件研究、芯片设计试制、新创制程团队，或需要小量多样化制程的环境。它能有效解决...
自动曝光机
自动曝光机在量产制程与高精度研发中是不可或缺的设备，其最大效益在于能以全自动流程完成取片、对位、曝光与出片动作，大幅提升产能与制程一致性。透过高稳定度的平行光源、精密自动对位系统与程序化控制，自动曝光机能确保线宽、图样边缘与曝光能量的高度一致，协助制程工程师有效提升良率并降低每片晶圆的变异。 选用自动曝光机的理由多为：提升产能、缩短制程节拍、确保质量一致性、降低人力成本、满足高精度制程需求。它特别适用于芯片量产厂、MEMS...
LDI雷射直写曝光机
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直写曝光机是一种利用雷射光直接在光阻上绘制图案的技术，省去传统光罩制作步骤。它广泛应用于PCB制造、半导体微影及薄膜组件，具有高精度、灵活快速及适合小批量生产的优点。 Laser...
曝光机驱动器
曝光机的驱动器负责接收控制系统指令并精准驱动马达，是平台运动控制的关键组件。其高分辨率电流控制与高速闭回路运算，可确保平台在加减速、微位移与高速扫描时维持平滑稳定的动态表现，提升对位与曝光精度。 科毅科技的驱动器支持多轴同步运动，可同时协调...
曝光机马达
曝光机专用高精度马达是影像对位与平台传动的核心动力。马达是曝光机中的整体传动系统的核心组件，负责驱动晶圆平台、对位模块与精密移动机构，其性能直接影响曝光质量、线宽均匀度与整体制程稳定性。因此，马达必须具备...
光罩
科毅科技提供高分辨率、低缺陷的光罩制作服务，支持 MEMS、光电、传感器与半导体等微影制程需求。采用高平坦度基板与高质量铬膜，确保曝光图样能精准转移至光阻层，协助客户提升曝光成功率、缩短研发与试产周期。无论应用于研发验证、原型制作或小量试产，皆能提供稳定可靠的制程支持。 在材料与制作质量上，科毅科技可依据客户版图与制程需求，选用石英或玻璃等高平坦度基板，搭配具备良好光学稳定性的铬膜（Cr）或专用光学材料，支持从微米级到奈米级线宽的图样转移。同时提供完整的前后段配套服务，包含版图检查、数据转换、尺寸验证与瑕疵检测，让客户能安心专注于制程开发与量产导入。快速交期与稳定质量，使科毅成为众多学研单位与产业客户长期合作的光罩服务伙伴。
压力传感器
科毅公司提供的压力传感器为专门应用于曝光机的关键零组件，主要用于实时监测曝光机真空腔体与气压环境，确保曝光腔室在稳定压力条件下运作。透过高精度、连续性的压力监测，可有效避免因腔体压力波动所导致的曝光不良、线宽偏移或制程稳定性下降，是维持微影制程质量与良率的重要基础组件。
移机规划
科毅公司提供的移机服务，是专为半导体等高科技产业的高精度设备所设计的专业工程服务。服务的核心不仅是将设备从...