手动旋转涂布机
科毅手动旋转涂布机用于光阻与薄膜材料的涂布试作与制程参数建立,晶圆以真空吸附固定于夹具上,透过马达旋转产生离心力,使光阻均匀展开于基板表面。设备本体采用 PP、PTFE、铝合金等耐化材质,能对应光阻与显影前段湿制程环境,适合长期研发使用。本设备特别适用于前期配方建立与工艺条件探索阶段,可在未进入自动化制程前,快速确认涂布行为与薄膜均一性,降低试作成本并建立后续制程标准。
控制方式可依需求选择,基本型提供两段式转速与时间控制;可程序版本搭配 PLC 与人机面板,可纪录多组工艺配方,并设定每段步序的转速、时间与加减速流程,便于进行制程条件比对与样品重现性验证。针对大尺寸晶圆,可选配自动开盖装置以降低操作负担,亦可搭配废液抽排、漏电保护、急停与防误操作设计,以提升操作安全性。设备常应用于光阻涂布配方建立、NPI 初期试作、光电与 MEMS 薄膜制程开发及学研机构的前段工艺教学,可与手动曝光机及桌上型显影机搭配,形成完整的光阻制程工作站。
科毅手动旋转涂布机的优势
在研发实验室与教学环境中,研究人员常利用科毅的手动旋转涂布机来进行光阻、奈米材料或薄膜的均匀涂布。他们需要在短时间内完成多次参数测试,以找出最适合的制程条件。
科毅科技的机台设计着重于操作稳定性与转速控制精度,能让使用者在低成本条件下仍获得高重现性的涂布结果。对于初期开发或实验教学,这种设备提供高度的可操作性与直观接口,使学生与研究人员能清楚理解转速、时间与涂膜厚度间的关系。对研发工程师而言,它能快速进行小样试涂,减少使用昂贵自动设备的时间与成本负担。科毅科技同时提供客制化夹具与稳定的售后支持,使设备能灵活应对不同晶圆尺寸与材料需求,成为教育训练、材料研究与制程开发中可靠且经济的选择。
产品规格
- 破片、1吋~12吋CHUCK(含晶圆置中置具)。
- 旋转马达(10~6000RPM)。
- 排废液系统。
- 排风系统。
- Interlock防护装置。
- 两段定时器控制。
- PLC可程控界面。
- 配方多段控制。
产品配备
- 一组单一尺寸使用CHUCK&置中治具。
- 光阻喷涂系统(压力桶)。
- EMO紧急安全按钮。
- 真空泵浦。
产品选配
- 桌上型or落地形。
- 多组不同尺寸使用CHUCK&置中置具。
- 排废液系统。
- Interlock防护装置。
- 可程序PLC控制,HMI操作接口。
- 配方多段控制(支持最多100组配方、单个配方30步骤)。
- 排风系统。
- 自动开盖装置。
- 铁氟龙CHUCK。
应用产业
- 平面显示器
- 印刷电路板(PCB)
- 半导体、IC构装
- 锂电池等电子、光电、储能等需要涂布光阻之产业
科毅 手动旋转涂布机简介
科毅科技股份有限公司是台湾一家拥有超过25年经验的专业手动旋转涂布机生产制造服务商。 我们成立于西元2000年, 在服务半导体、光电子和先进制造市场领域上, 科毅提供专业高品质的手动旋转涂布机制造服务, 科毅 总是可以达成客户各种品质要求。


