R&Dラボや教育環境では、研究者は頻繁にM&Rの手動スピンコーターを使用して、フォトレジスト、ナノ材料、または薄膜の均一なコーティングを行います。彼らは最適なプロセス条件を決定するために、短期間で複数のパラメータテストを実施する必要があります。
 
M&Rの機械設計は、操作の安定性とスピン制御の精度を重視しており、ユーザーが低コストで高い再現性のあるコーティング結果を達成できるようにしています。 初期開発や実験的な教育のために、この機器は高い操作性と直感的なインターフェースを提供し、学生や研究者がスピン速度、時間、コーティングの厚さの関係を明確に理解できるようにします。 R&Dエンジニアにとって、高価な自動化機器を使用する際の時間とコストの負担を軽減し、迅速な小規模サンプルコーティングを可能にします。 M&Rは、カスタマイズされた治具と強力なアフターサポートを提供し、設備がさまざまなウェーハサイズや材料要件に柔軟に適応できるようにし、教育、材料研究、プロセス開発において信頼性が高く経済的な選択肢となります。

仕様

• フラグメント、1インチから12インチのチル（ウェーハセンタリング治具を含む）。
• 回転モーター（10〜6000 RPM）。
• 廃液排水システム。
• 換気システム。
• インターロック保護装置。
• 二段階タイマー制御。
• PLCプログラム制御インターフェース。
• マルチステージレシピ制御。

構成

• 単一サイズのチャックおよびセンタリング治具。
• フォトレジストスプレーシステム（圧力タンク）。
• EMO緊急安全ボタン。
• 真空ポンプ。

オプション

• テーブルトップまたはフロアスタンディングタイプ。
• 複数サイズのチャックおよびセンタリングユニット。
• 廃液排水システム。
• インターロック保護装置。
• プログラム可能なPLC制御、HMIインターフェース。
• 多段式フォーミュラ制御（最大100のフォーミュラ、1フォーミュラあたり30ステップをサポート）。
• 換気システム。
• 自動キャップ開閉装置。
• テフロンCHUCK。

アプリケーション

• フラットパネルディスプレイ
• プリント基板（PCB）
• 半導体およびICパッケージング
• リチウム電池、オプトエレクトロニクス、エネルギー貯蔵など、フォトレジストコーティングを必要とする産業。