En laboratorios de I+D y entornos de enseñanza, los investigadores utilizan frecuentemente los recubridores manuales de M&R para un recubrimiento uniforme de fotoresistencias, nanomateriales o películas delgadas. Necesitan realizar múltiples pruebas de parámetros en un corto período de tiempo para determinar las condiciones óptimas del proceso.
 
El diseño de la máquina de M&R enfatiza la estabilidad operativa y la precisión en el control de giro, lo que permite a los usuarios lograr resultados de recubrimiento altamente reproducibles a bajo costo. Para el desarrollo inicial o la enseñanza experimental, este equipo ofrece una alta operatividad y una interfaz intuitiva, lo que permite a los estudiantes e investigadores comprender claramente la relación entre la velocidad de giro, el tiempo y el grosor del recubrimiento. Para los ingenieros de I+D, permite un recubrimiento rápido de muestras a pequeña escala, reduciendo el tiempo y el costo de utilizar equipos automatizados costosos. M&R también proporciona accesorios personalizados y un sólido soporte postventa, lo que permite que el equipo se adapte de manera flexible a diferentes tamaños de obleas y requisitos de material, convirtiéndolo en una opción confiable y económica para la educación, la investigación de materiales y el desarrollo de procesos.

Especificaciones

• Fragmentos, enfriadores de 1 pulgada a 12 pulgadas (incluidos los accesorios de centrado de obleas).
• Motores rotativos (10~6000 RPM).
• Sistema de drenaje de líquidos residuales.
• Sistema de ventilación.
• Dispositivo de protección de enclavamiento.
• Control de temporizador de dos etapas.
• Interfaz de control programable PLC.
• Control de recetas en múltiples etapas.

Configuración

• Un dispositivo de sujeción y centrado de tamaño único.
• Sistema de rociado de fotoresistencia (tanque de presión).
• Botón de emergencia EMO.
• Bomba de vacío.

Opciones

• Tipo de sobremesa o de pie.
• Múltiples tamaños de CHUCK y unidad de centrado.
• Sistema de drenaje de líquidos residuales.
• Dispositivo de protección de enclavamiento.
• Control PLC programable, interfaz HMI.
• Control de fórmula de múltiples etapas (soporta hasta 100 fórmulas, 30 pasos por fórmula).
• Sistema de ventilación.
• Dispositivo automático de apertura de tapas.
• CHUCK de teflón.

Aplicaciones

• Pantallas de panel plano
• Placas de circuito impreso (PCBs)
• Semiconductores y empaquetado de circuitos integrados
• Industrias que requieren recubrimiento de fotoresistencias, como baterías de litio, optoelectrónica y almacenamiento de energía.