R&D 실험실과 교육 환경에서 연구자들은 사진 감광제, 나노 소재 또는 박막의 균일한 코팅을 위해 M&R의 수동 스핀 코터를 자주 사용합니다. 최적의 공정 조건을 결정하기 위해 짧은 시간 내에 여러 매개변수 테스트를 수행해야 합니다.
 
M&R의 기계 설계는 운영 안정성과 회전 제어 정밀성을 강조하여 사용자가 저렴한 비용으로 매우 재현 가능한 코팅 결과를 달성할 수 있도록 합니다. 초기 개발 또는 실험적 교육을 위해 이 장비는 높은 조작성과 직관적인 인터페이스를 제공하여 학생들과 연구자들이 회전 속도, 시간 및 코팅 두께 간의 관계를 명확하게 이해할 수 있도록 합니다. R&D 엔지니어에게는 빠른 소규모 샘플 코팅을 가능하게 하여 비싼 자동화 장비를 사용하는 시간과 비용 부담을 줄여줍니다. M&R는 맞춤형 고정구와 강력한 애프터 서비스 지원을 제공하여 장비가 다양한 웨이퍼 크기와 재료 요구 사항에 유연하게 적응할 수 있도록 하여 교육, 재료 연구 및 공정 개발을 위한 신뢰할 수 있고 경제적인 선택이 됩니다.

사양

• 조각, 1인치에서 12인치까지의 칠(웨이퍼 중심 장치 포함).
• 회전 모터 (10~6000 RPM).
• 폐액 배수 시스템.
• 환기 시스템.
• 인터록 보호 장치.
• 2단계 타이머 제어.
• PLC 프로그래머블 제어 인터페이스.
• 다단계 레시피 제어.

구성

• 단일 크기 CHUCK 및 중심 고정 장치.
• 포토레지스트 분사 시스템 (압력 탱크).
• EMO 비상 안전 버튼.
• 진공 펌프.

옵션

• 테이블탑 또는 바닥형.
• 다양한 크기의 척 및 중심 장치.
• 폐액 배수 시스템.
• 인터록 보호 장치.
• 프로그래머블 PLC 제어, HMI 인터페이스.
• 다단계 포뮬라 제어 (최대 100개의 포뮬라, 포뮬라당 30단계 지원).
• 환기 시스템.
• 자동 캡 개방 장치.
• 테프론 척.

응용 프로그램

• 평판 디스플레이
• 인쇄 회로 기판 (PCB)
• 반도체 및 IC 포장
• 리튬 배터리, 광전자 및 에너지 저장과 같은 포토레지스트 코팅이 필요한 산업.