Manueller Spin Coater | M&R NANO TECHNOLOGIE Halbleiter & Optoelektronik Prozessausrüstung
Der Handbuchspinbeschichter von M&R wird für Versuche zur Beschichtung von Photoresist und Dünnschichtmaterial sowie zur Festlegung von Prozessparametern verwendet. Wafer werden vakuumhaft an einer Halterung fixiert, und die durch die Motorrotation erzeugte Zentrifugalkraft sorgt dafür, dass das Fotolack gleichmäßig auf der Substratoberfläche verteilt wird. Das Gehäuse der Ausrüstung besteht aus chemikalienbeständigen Materialien wie PP, PTFE und Aluminiumlegierung, die in der Lage sind, die feuchte Verarbeitungsumgebung von Fotolack und Vorentwicklungsphasen zu widerstehen, was es für den langfristigen Einsatz in der Forschung und Entwicklung geeignet macht. Diese Ausrüstung ist besonders geeignet für die frühen Phasen der Formulierung und der Erkundung von Prozessbedingungen, da sie eine schnelle Bestätigung des Beschichtungsverhaltens und der Filmgleichmäßigkeit vor der Automatisierung ermöglicht, die Versuchskosten senkt und nachfolgende Prozessstandards festlegt.
Die Steuerungsmethoden sind je nach Anforderungen wählbar. Das Basismodell bietet eine zweistufige Geschwindigkeits- und Zeitkontrolle; die programmierbare Version, ausgestattet mit einer SPS und HMI, kann mehrere Prozessformulierungen aufzeichnen und die Geschwindigkeit, Zeit sowie Beschleunigungs-/Verzögerungsfluss für jeden Schritt einstellen, was den Vergleich der Prozessbedingungen und die Überprüfung der Reproduzierbarkeit von Proben erleichtert. Für große Wafer kann ein automatisches Abdeckgerät hinzugefügt werden, um die Betriebsbelastung zu reduzieren. Die Abwasserentnahme, der Leckageschutz, der Notstopp und Designs gegen Fehlbedienung können ebenfalls hinzugefügt werden, um die Betriebssicherheit zu erhöhen. Die Ausrüstung wird häufig für die Entwicklung von Formulierungen zur Beschichtung mit Fotolack, die anfängliche NPI-Pilotproduktion, die Entwicklung von Dünnfilmprozessen in der Optoelektronik und MEMS sowie für die Lehre von Frontend-Prozessen in akademischen und Forschungseinrichtungen verwendet. Es kann mit manuellen Belichtungsmaschinen und Tischentwicklungsmaschinen kombiniert werden, um eine vollständige Fotolackprozess-Arbeitsstation zu bilden.Wählen Sie M&R NANO TECHNOLOGIE für hochwertige Halbleiter- und optoelektronische Prozessgeräte sowie zuverlässige maßgeschneiderte Fertigung.
Manueller Spin Coater
Der Handbuchspinbeschichter von M&R wird für Versuche zur Beschichtung von Photoresist und Dünnschichtmaterial sowie zur Festlegung von Prozessparametern verwendet. Wafer werden vakuumhaft an einer Halterung fixiert, und die durch die Motorrotation erzeugte Zentrifugalkraft sorgt dafür, dass das Fotolack gleichmäßig auf der Substratoberfläche verteilt wird. Das Gehäuse der Ausrüstung besteht aus chemikalienbeständigen Materialien wie PP, PTFE und Aluminiumlegierung, die in der Lage sind, die feuchte Verarbeitungsumgebung von Fotolack und Vorentwicklungsphasen zu widerstehen, was es für den langfristigen Einsatz in der Forschung und Entwicklung geeignet macht. Diese Ausrüstung ist besonders geeignet für die frühen Phasen der Formulierung und der Erkundung von Prozessbedingungen, da sie eine schnelle Bestätigung des Beschichtungsverhaltens und der Filmgleichmäßigkeit vor der Automatisierung ermöglicht, die Versuchskosten senkt und nachfolgende Prozessstandards festlegt.
Die Steuerungsmethoden sind je nach Anforderungen wählbar. Das Basismodell bietet eine zweistufige Geschwindigkeits- und Zeitkontrolle; die programmierbare Version, ausgestattet mit einer SPS und HMI, kann mehrere Prozessformulierungen aufzeichnen und die Geschwindigkeit, Zeit sowie Beschleunigungs-/Verzögerungsfluss für jeden Schritt einstellen, was den Vergleich der Prozessbedingungen und die Überprüfung der Reproduzierbarkeit von Proben erleichtert. Für große Wafer kann ein automatisches Abdeckgerät hinzugefügt werden, um die Betriebsbelastung zu reduzieren. Die Abwasserentnahme, der Leckageschutz, der Notstopp und Designs gegen Fehlbedienung können ebenfalls hinzugefügt werden, um die Betriebssicherheit zu erhöhen. Die Ausrüstung wird häufig für die Entwicklung von Formulierungen zur Beschichtung mit Fotolack, die anfängliche NPI-Pilotproduktion, die Entwicklung von Dünnfilmprozessen in der Optoelektronik und MEMS sowie für die Lehre von Frontend-Prozessen in akademischen und Forschungseinrichtungen verwendet. Es kann mit manuellen Belichtungsmaschinen und Tischentwicklungsmaschinen kombiniert werden, um eine vollständige Fotolackprozess-Arbeitsstation zu bilden.
Vorteile der manuellen Rotationsbeschichtungsmaschine von M&R
In F&E-Labors und Lehrumgebungen nutzen Forscher häufig die manuellen Spin-Beschichter von M&R für eine gleichmäßige Beschichtung von Photoresisten, Nanomaterialien oder Dünnfilmen. Sie müssen innerhalb kurzer Zeit mehrere Parameter-Tests durchführen, um die optimalen Prozessbedingungen zu bestimmen.
Das Maschinenkonzept von M&R betont die betriebliche Stabilität und die Präzision der Drehkontrolle, wodurch Benutzer hochgradig reproduzierbare Beschichtungsergebnisse zu niedrigen Kosten erzielen können. Für die anfängliche Entwicklung oder experimentelle Lehre bietet diese Ausrüstung eine hohe Bedienbarkeit und eine intuitive Benutzeroberfläche, die es Studenten und Forschern ermöglicht, die Beziehung zwischen Drehgeschwindigkeit, Zeit und Beschichtungsdicke klar zu verstehen. Für F&E-Ingenieure ermöglicht es eine schnelle Beschichtung von Kleinmustern, wodurch die Zeit- und Kostenbelastung durch den Einsatz teurer automatisierter Geräte reduziert wird. M&R bietet auch maßgeschneiderte Vorrichtungen und einen robusten After-Sales-Support, der es der Ausrüstung ermöglicht, sich flexibel an verschiedene Wafergrößen und Materialanforderungen anzupassen, was sie zu einer zuverlässigen und wirtschaftlichen Wahl für Bildung, Materialforschung und Prozessentwicklung macht.
Spezifikationen
- Fragmente, 1-Zoll bis 12-Zoll Kühlkörper (einschließlich Wafer-Zentriervorrichtungen).
- Rotationsmotoren (10~6000 U/min).
- Abwasserentsorgungssystem.
- Belüftungssystem.
- Sicherheitsverriegelung.
- Zwei-Stufen-Timersteuerung.
- PLC programmierbare Steuerungsschnittstelle.
- Mehrstufige Rezeptkontrolle.
Konfiguration
- Einzelgröße CHUCK & Zentriervorrichtung.
- Fotoresist-Sprühsystem (Drucktank).
- EMO Notfall-Sicherheitstaste.
- Vakuumpumpe.
Optionen
- Tisch- oder Standgerät.
- Mehrere Größen von CHUCK & Zentriereinheit.
- Abwasserentsorgungssystem.
- Sicherheitsverriegelung.
- Programmierbare PLC-Steuerung, HMI-Schnittstelle.
- Mehrstufige Rezeptsteuerung (unterstützt bis zu 100 Rezepte, 30 Schritte pro Rezept).
- Belüftungssystem.
- Automatisches Deckelöffnungsgerät.
- Teflon CHUCK.
Anwendungen
- Flachbildschirme
- Leiterplatten (PCBs)
- Halbleiter und IC-Verpackungen
- Branchen, die eine Fotolackbeschichtung benötigen, wie Lithiumbatterien, Optoelektronik und Energiespeicherung.
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Manueller Spin CoaterProfessionelle maßgeschneiderte Halbleiter- & optoelektronische Prozessgeräte
M&R NANO TECHNOLOGY bietet hochwertige Manueller Spin Coater sowie Halbleiter- und optoelektronische Prozessgeräte, die für fortschrittliche Halbleiter-, optoelektronische und Testanwendungen entwickelt wurden.Unsere Produktlinie umfasst detaillierte Masken-Aligner, Spin-Coater und Entwickler, die in unserem Werk in Taoyuan, Taiwan, mit starken Automatisierungsfähigkeiten hergestellt werden.
Wir konzentrieren uns darauf, stabile Qualität und präzise Anpassungen durch unsere interne Forschung und Entwicklung sowie Miniaturisierungstechnologie zu liefern. Dies stellt sicher, dass jedes System strengen Prozessanforderungen entspricht und gleichzeitig praktische Haltbarkeit, niedrige Kosten und hohe Effizienz für die Endbenutzer aufrechterhält.
Für globale Käufer bietet M&R NANO TECHNOLOGY zuverlässige Fertigungsunterstützung, die den Beschaffungsprozess vereinfacht. Wir bieten reaktionsschnelle Kommunikation, effiziente Automatisierungsintegration und konsistente Wartung nach dem Verkauf, um unseren Kunden zu helfen, ihre Halbleiter- und optoelektronischen Prozessgeräte erfolgreich in die Produktion zu bringen.