Dans les laboratoires de R&D et les environnements d'enseignement, les chercheurs utilisent fréquemment les revêtements manuels de M&R pour un revêtement uniforme de photoresistants, de nanomatériaux ou de films minces. Ils doivent effectuer plusieurs tests de paramètres dans un court laps de temps pour déterminer les conditions de processus optimales.
 
La conception de la machine de M&R met l'accent sur la stabilité opérationnelle et la précision du contrôle de la rotation, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats de revêtement hautement reproductibles à faible coût. Pour le développement initial ou l'enseignement expérimental, cet équipement offre une grande opérabilité et une interface intuitive, permettant aux étudiants et aux chercheurs de comprendre clairement la relation entre la vitesse de rotation, le temps et l'épaisseur du revêtement. Pour les ingénieurs R&D, cela permet un revêtement rapide d'échantillons à petite échelle, réduisant le temps et le coût liés à l'utilisation d'équipements automatisés coûteux. M&R propose également des équipements personnalisés et un support après-vente solide, permettant à l'équipement de s'adapter de manière flexible à différentes tailles de plaquettes et exigences matérielles, ce qui en fait un choix fiable et économique pour l'éducation, la recherche sur les matériaux et le développement de processus.

Spécifications

• Fragments, refroidisseurs de 1 pouce à 12 pouces (y compris les dispositifs de centrage de wafers).
• Moteurs rotatifs (10~6000 RPM).
• Système de drainage des liquides usés.
• Système de ventilation.
• Dispositif de protection par verrouillage.
• Contrôle de minuterie à deux étages.
• Interface de contrôle programmable PLC.
• Contrôle de recette multi-étapes.

Configuration

• Un dispositif de CHUCK et de centrage de taille unique.
• Système de pulvérisation de photoresist (réservoir sous pression).
• Bouton de sécurité d'urgence EMO.
• Pompe à vide.

Possibilités

• Type de table ou sur pied.
• Plusieurs tailles de CHUCK et unité de centrage.
• Système de drainage des liquides usés.
• Dispositif de protection par verrouillage.
• Contrôle PLC programmable, interface HMI.
• Contrôle de formule multi-étapes (prend en charge jusqu'à 100 formules, 30 étapes par formule).
• Système de ventilation.
• Dispositif d'ouverture de capuchon automatique.
• CHUCK en Téflon.

Applications

• Écrans à panneaux plats
• Cartes de circuits imprimés (PCB)
• Semi-conducteurs et emballage de circuits intégrés
• Industries nécessitant un revêtement de photoresist, telles que les batteries au lithium, l'optoélectronique et le stockage d'énergie.