
科毅科技推出新一代 MCS 光罩除尘机 以无接触洁净与智慧侦测强化曝光制程稳定性
协助半导体与光电产线强化曝光制程稳定性并提升良率
在先进半导体制程中,任何微小颗粒都可能牵动整体良率表现,甚至对生产进度造成不可逆的影响。为协助晶圆厂全面提升制程洁净度与稼动效率,科毅科技正式推出全新一代 MCS 光罩除尘机,以「高洁净、高智能、高速度」三大核心能力重新定义光罩洁净技术标准,为全球曝光制程带来革命性的升级体验。
「这不只是除尘设备,而是企业打造更智慧、更高效、更可靠曝光制程的关键武器。」科毅科技强调,未来将持续投入洁净技术、AI 检测与自动化控制领域的研发,协助半导体产线面对更严苛的制程挑战,迈向更加精准、洁净与智能的制造新时代。
02 Jan, 2026
MCS 光罩除尘机搭载创新的 微粒气流导引技术,可针对微米至亚微米级的颗粒污染进行定向、高效、低风切震动的清除,避免传统清洁方式可能造成的二次污染或清洁死角,大幅提升光罩表面的可用性与稳定性。同时整合 智能扫描感测 AI 模块,能自动判别污染位置与种类,让清洁流程精准、可重复、具一致性,满足先进制程对高度可靠性的需求。
在运动控制方面,MCS 系统采用 高精度伺服平台与动态补偿算法,使整体清洁动作更流畅、更快速,并确保在高速运作下仍维持极低震动与最佳清洁效率。此技术优势使 MCS 不仅是单纯的设备升级,更是协助产线提升良率与稼动的策略性工具。
科毅科技指出,导入 MCS 光罩除尘机后,客户可明显感受到 光罩报废率下降、制程稳定度提升、污染造成的停线与重工次数降低 等关键效益。对于追求高良率与高产能的先进制程产线而言,MCS 所带来的不只是成本降低,更是一套完整、智慧化的洁净管理方案。

